日時
2024年11月21日（木）13:00-14:30
開催方式
ハイブリッド開催
場所：東京科学大学 大岡山キャンパス 南9号館605号室
オンライン：Zoom
主催
東京科学大学
共催
物質・材料研究機構、産業技術総合研究所、北海道大学
定員
セミナー：オンライン200名、現地30名
参加費
セミナー：無料
参加申し込み
Webフォーム https://forms.gle/C8WdjbTcSfzc7cbK8
申込締切：11月13日（水）
詳細
東京科学大学、物質・材料研究機構、産業技術総合研究所、北海道大学は、令和3年度からスタートした文部科学省委託事業である「マテリアル先端リサーチインフラ」の一環として、『電子ビーム描画装置CAD変換技術』と題して技術セミナーを開催いたします。電子ビーム描画装置の原理と露光ノウハウ、そしてCADを近接効果補正などの描画最適化技術を導入して露光ファイルに変換する技術やノウハウについて、ご紹介いただきます。
セミナー概要
【プログラム】
13:00-13:05 文部科学省ARIM事業について 東京科学大学 宮本 恭幸
13:05-13:50 電子ビーム描画装置の基礎 日本電子株式会社 會田 征徳
13:50-14:35 BEAMERを用いた露光最適化 GenIsys 清水 諭
お問い合わせ
E-mail: inquiry.arim(at)first.iir.isct.ac.jp （セミナーおよび東京地区・つくば地区実習）
E-mail: material-dx(at)cris.hokudai.ac.jp （北海道地区実習）
※(at)を@に書き換えてください。
ホームページ
[URL] http://www.pe.titech.ac.jp/qnerc/nano_support/index-j.html
最新情報は、イベントWebサイトでご確認ください。