日時
2024年7月4日（木）～5日（金）
場所
東京工業大学 蔵前会館
主催
応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会（分科会）
参加費
学生：4,000円、一般：20,000円
参加申し込み
Webフォーム https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=2826022165321700&EventCode=1898778286
概要
NGLワークショップは、リソグラフィに関係するデバイス、装置、プロセス、材料等、リソグラフィに関する幅広い分野の研究者、エンジニアが一堂に会するワークショップです。
マテリアル先端リサーチインフラ（ARIM）ではポスター展示を行います。
ARIMでの共用施設利用の概要について紹介と、機器・設備の利用に関するご相談も受け付けておりますので、どうぞお気軽にお声がけください。
プログラム
【基調講演】
“EUV lithography - Overview and Outlook”
Anthony Yen 氏（ASML）
“我が国の半導体政策について”
齋藤 尚史 氏（経済産業省）
“熊本大学における半導体分野の人材育成・研究開発への取り組み”
青柳 昌宏 氏（熊本大学）
“次世代DRAM向けパターニング戦略”
岩城 友博 氏（マイクロンメモリジャパン）
【技術セッション】
7/4 光リソグラフィ＆アドバンストパターニング、レジスト材料、ポスターセッション
7/5 ナノインプリント、EB・計測・マスク技術、EUVL
お問い合わせ
事務局：
TEL：090(5493)1147
E-mail：ngl(at)jsap.or.jp ※(at)を@に書き換えてください。
ホームページ
[URL] https://annex.jsap.or.jp/NGL/
最新情報は、イベントWebサイトでご確認ください。