ハブ・スポーク機関からのお知らせ

「応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会(NGLワークショップ2024)」(2024年7月4日~5日)にてARIMを紹介

日時

2024年7月4日(木)~5日(金)

場所

東京工業大学 蔵前会館

主催

応用物理学会 次世代リソグラフィ技術研究会(分科会)

参加費

学生:4,000円、一般:20,000円

参加申し込み

Webフォーム https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=2826022165321700&EventCode=1898778286

概要

NGLワークショップは、リソグラフィに関係するデバイス、装置、プロセス、材料等、リソグラフィに関する幅広い分野の研究者、エンジニアが一堂に会するワークショップです。
マテリアル先端リサーチインフラ(ARIM)ではポスター展示を行います。
ARIMでの共用施設利用の概要について紹介と、機器・設備の利用に関するご相談も受け付けておりますので、どうぞお気軽にお声がけください。

プログラム

【基調講演】
“EUV lithography - Overview and Outlook”
  Anthony Yen 氏(ASML)

“我が国の半導体政策について”
  齋藤 尚史 氏(経済産業省)

“熊本大学における半導体分野の人材育成・研究開発への取り組み”
  青柳 昌宏 氏(熊本大学)

“次世代DRAM向けパターニング戦略”
  岩城 友博 氏(マイクロンメモリジャパン)

【技術セッション】
7/4 光リソグラフィ&アドバンストパターニング、レジスト材料、ポスターセッション
7/5 ナノインプリント、EB・計測・マスク技術、EUVL

お問い合わせ

事務局:
TEL:090(5493)1147
E-mail:ngl(at)jsap.or.jp ※(at)を@に書き換えてください。

ホームページ
[URL] https://annex.jsap.or.jp/NGL/
最新情報は、イベントWebサイトでご確認ください。

  • 2024年6月24日