日時

2023年7月6日（木）～7日（金）

場所

東京工業大学　蔵前会館

主催

応用物理学会 次世代リソグラフィ技術 研究会（分科会）

参加費

学生：4,000円、一般：20,000円

参加申し込み

Webフォーム　https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=2826022165321700&EventCode=3125066639

概要

NGLワークショップは、リソグラフィに関係するデバイス、装置、プロセス、材料等、リソグラフィに関する幅広い分野の研究者、エンジニアが一堂に会するワークショップです。
マテリアル先端リサーチインフラ（ARIM）ではポスター展示を行います。(展示説明は、6日 17:00-19:00, ポスターNo. P24）
ARIM事業での共用施設利用の概要について紹介をします。機器・設備の利用に関するご相談も受け付けておりますので、どうぞお気軽にお声がけください。

プログラム

【基調講演】
”先端ロジック半導体の技術動向と将来展望”
　　平本 俊郎 氏（東京大学）

”EUV lithogr aphy transition from 0.33 to 0.55 NA Challenges and Opportunities”
　　Pieter Vanelderen 氏　（imec）

”３D パッケージ技術”
　　菅沼 克昭 氏（大阪大学）

【技術セッション】
7/6　光リソグラフィ＆アドバンストパターニング、レジスト 材料、ポスターセッション
7/7　ナノインプリント、EB・計測・マスク技術、EUVL

お問い合わせ

事務局：
TEL：090(5493)1147
E-mail: ngl(at)jsap.or.jp　※(at)を@に書き換えてください。

ホームページ
[URL] https://annex.jsap.or.jp/NGL/
最新情報は、イベントWebサイトでご確認ください。