【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.18】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22BA0027
利用課題名 / Title
高周波デバイスの作製に向けた微細加工装置の利用
利用した実施機関 / Support Institute
筑波大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
高周波デバイス/ High frequency device,リソグラフィ/Lithography,スパッタリング/Sputtering
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
柏木 隆成
所属名 / Affiliation
筑波大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
BA-009：パターン投影リソグラフィシステム
BA-002：スパッタリング装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
材料の微細加工及び電極用配線の作製を目的に、リソグラフィ装置及びスパッタリング装置を利用した。
実験 / Experimental
材料の微細加工に使用するエッチング用レジスト膜形成のために、リソグラフィ装置（μPG501）を利用した。また、サファイア基板上に電極膜を形成するために、スパッタリング装置（CFS-4EP-LL）を利用した。
結果と考察 / Results and Discussion
リソグラフィ装置を用いて形成したエッチング用レジスト膜を用いることで、一辺数十から数百マイクロメートルの長方形状に材料を成形することができた。また、サファイア基板上に電極を安定的に作製することができた。Fig. 1 には、スパッタリング装置（CFS-4EP-LL）を用いてサファイア基板状に電極を作製した例を示した。電極は、CrとAuを用いてトータル100 nm程度の膜厚になるようにして作製した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 電極パターン画像
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
本テーマを円滑に進めるにあたり，筑波大学のARIMスタッフの方にお世話になりました。感謝いたします。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 柏木隆成 他, Bi2212-THz波発振器の材料と発振特性に関する研究，第83回応用物理学会秋季学術講演会 (2022.09.20~23)
- 山口啄弥 他, 高温超伝導体を用いた小型THz波発振システムの開発 Ⅱ，第83回応用物理学会秋季学術講演会 (2022.09.20~23)
- 中川駿吾 他, アルカリエッチングを用いた銅酸化物超伝導体Bi2212のデバイス加工Ⅱ，第83回応用物理学会秋季学術講演会 (2022.09.20~23)
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件