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パターン投影リソグラフィシステム

    パターン投影リソグラフィシステム
    パターン投影リソグラフィシステム
機器ID BA-009
分類 リソグラフィ > 光露光(マスクレス、直接描画)
装置名称 パターン投影リソグラフィシステム (Maskless Lithography System)
設置機関 筑波大学
設置場所 共同研究棟C
メーカー名 Heidelberg instruments (Heidelberg instruments)
型番 μPG501
キーワード マスクレス露光
仕様・特徴 描画エリア;125×125mm2
最小描画サイズ;1.0μm
最小アドレッシンググリッド;50nm@1μm
描画スピード;50mm2/min@1μm,100mm2/min@2μm
機関代表メールアドレス staff=u-tsukuba-arim.jp ([=]を[@]にしてください)
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