日時
2023年11月22日（水）
場所
東北大学西澤潤一記念研究センター
〒980-0845 宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉519-1176
主催
Nano-Micro Fabrication Symposium実行委員会
共催
東北大学マイクロシステム融合研究開発センター、MEMSパークコンソーシアム
参加費
無料（ショートプレゼン、ハンズオン実習）
昼食交流会 お一人様1,000円
ハンズオン実習参加申し込み
NMFS実行委員会事務局
E-mail: nmfs-office(at)mail.mu-sic.tohoku.ac.jp ※(at)を@に書き換えてください。
TEL: 022-229-4113
申込締切：11月22日（水）
概要
半導体加工技術を応用して微細パターンを形成するナノマイクロファブリケーションは、半導体のみならずセンサや微小光学部品などの幅広いデバイス作製に欠かせない技術です。その要であるリソグラフィ技術のほか、エッチング、成膜、インプリント、めっきなど、様々な技術が複合的に用いられますが、加工装置や計測装置の進歩により、その応用範囲が拡大しています。本シンポジウムでは、デバイス分野の研究開発を加速させることを目的として、最新の加工装置や計測装置で可能となるナノマイクロファブリケーションに関するショートプレゼンとハンズオンの実習を行います。
詳細
【プログラム】
10:00-12:00 ショートプレゼン（無料、事前申込不要）
（各社15分ずつ）GenISys、エリオニクス、ハイデルベルグ・インストルメンツ、SIJテクノロジ、
住友精密工業、TOWAレーザーフロント
12:00-13:00 昼食交流会（お一人様1,000円）
13:00-17:00 ハンズオン実習（無料、事前申込必要）
コース１ サブフェムトインクジェットパターニングコース（SIJテクノロジ）
コース２ EBリソグラフィコース（GenISys、エリオニクス）
近接効果補正（OPC）、フィールドつなぎ補正
コース３ グレイスケール、パターン補正を含む精密リソグラフィコース（GenISys、ミカサ、
ハイデルベルグ・インストルメンツ）
試作パターン：回折光学素子（DOE）、フレネルレンズ、近接効果補正（OPC）
お問い合わせ
NMFS実行委員会事務局
E-mail: nmfs-office(at)mail.mu-sic.tohoku.ac.jp ※(at)を@に書き換えてください。
TEL:022-229-4113
ホームページ
[URL] http://www.mu-sic.tohoku.ac.jp/NMFS/wp/wp-content/uploads/2023/11/NMFS-2023-2nd-Nano-Micro-Fabrication-Symposium.pdf
最新情報は、イベントWebサイトでご確認ください。