日時
2023年7月6日（木）～7日（金）
場所
東京工業大学 蔵前会館
主催
応用物理学会 次世代リソグラフィ技術 研究会（分科会）
参加費
学生：4,000円、一般：20,000円
参加申し込み
Webフォーム https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=2826022165321700&EventCode=3125066639
概要
NGLワークショップは、リソグラフィに関係するデバイス、装置、プロセス、材料等、リソグラフィに関する幅広い分野の研究者、エンジニアが一堂に会するワークショップです。
マテリアル先端リサーチインフラ（ARIM）ではポスター展示を行います。(展示説明は、6日 17:00-19:00, ポスターNo. P24）
ARIM事業での共用施設利用の概要について紹介をします。機器・設備の利用に関するご相談も受け付けておりますので、どうぞお気軽にお声がけください。
プログラム
【基調講演】
”先端ロジック半導体の技術動向と将来展望”
平本 俊郎 氏（東京大学）
”EUV lithogr aphy transition from 0.33 to 0.55 NA Challenges and Opportunities”
Pieter Vanelderen 氏 （imec）
”３D パッケージ技術”
菅沼 克昭 氏（大阪大学）
【技術セッション】
7/6 光リソグラフィ＆アドバンストパターニング、レジスト 材料、ポスターセッション
7/7 ナノインプリント、EB・計測・マスク技術、EUVL
お問い合わせ
事務局：
TEL：090(5493)1147
E-mail: ngl(at)jsap.or.jp ※(at)を@に書き換えてください。
ホームページ
[URL] https://annex.jsap.or.jp/NGL/
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