【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.06.26】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23NM0026
利用課題名 / Title
可視光位相変調のためのSiNメタ原子形成
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-
【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-
キーワード / Keywords
フォトニクスデバイス/ Nanophotonics device,メタマテリアル/ Metamaterial,光デバイス/ Optical Device,スパッタリング/ Sputtering,電子線リソグラフィ/ EB lithography,膜加工・エッチング/ Film processing/etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)
篠田 一馬
所属名 / Affiliation
宇都宮大学工学部基盤工学科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
NM-601:電子ビーム描画装置 [ELS-F125]
NM-607:スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #3]
NM-615:ICP-RIE装置 [RIE-101iPH]
NM-616:シリコンDRIE装置 [ASE-SRE]
NM-649:FE-SEM+EDX [SU8230]
報告書データ / Report
概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
極薄短焦点なレンズなどのメタマテリアルによる光学素子を実現するために,SiNメタ原子の作成および製造可能な構造サイズの把握をねらう.メタ原子は可視光波長の半分程度のスケールを持つ微細構造体で,透過光の位相変調を行うことで,光の集光作用を実現するものである.このメタ原子をアレイ状に配列させることでレンズが実現できるが,その構造とサイズによって位相変調の範囲に制限がかかるため,多様な位相変調が実現できるよう,メタ原子の製造限界を探る.
実験 / Experimental
ベースとして0.5mm厚の溶融石英基板を用い,その上におよそ100nm×100nm×1000nm程度の角柱状のSiNメタ原子を配列させる.プロセスとしては,基板上にSiN膜をプラズマCVDで成膜し,さらにCr膜をスパッタ装置で積層した後,レジストを塗布する.EB描画にてメタ原子のパターンを転写し,CrをマスクとしたエッチングでSiNの谷を所望の深さまで到達させる.その後,Crを除去することで,所望のメタ原子を製造する.
結果と考察 / Results and Discussion
幅約100nm高さ約800nmの角柱状のSiNメタ原子をエッチングにて形成し,断面をSEMにて観察した画像を図1に示す.エッチング時間,電力,ガス流量等の調整の結果,柱の側面は比較的垂直に形成されているが,若干のボーイングが確認される.深さは目標まで達していないものの800nmまで実現しており,アスペクト比1:8程度のメタ原子は実現可能であることが確認された.今後,EB描画によるパターンニングとエッチングプロセスを改良することにより,アスペクト比の向上と形状多様性の確保を進める.
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 SiNメタ原子の電子顕微鏡像.
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)
本実験の一部は東北大学ナノテク融合技術支援センター(ARIM課題番号JPMXP1223TU0051)にて実施した.本実験に関して有意義なコメントを提供していただいた物質・材料研究機構の大里啓孝氏に深く感謝する.
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件