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電子ビーム描画装置 [ELS-F125]

設備ID NM-601
分類 リソグラフィ > 電子線描画(EB)
装置名称 電子ビーム描画装置 [ELS-F125] ( EB Lithography [ELS-F125])
設置機関 物質・材料研究機構 (NIMS)
設置場所 NIMS千現地区 材料信頼性実験棟
メーカー名 エリオニクス (Elionix)
型番 ELS-F125
キーワード 電子ビーム、描画、EB、リソグラフィ、ナノ、パターニング、レジスト、電子線描画(EB)/ Electron beam lithography
仕様・特徴 ・用途:高精細ナノパターニング
・電子銃:ZrO/W 熱電界放射型
・最大加速電圧:125kV (25kV ステップで可変)
・フィールドつなぎ精度:25nm 以下(500μm フィールド)
・重ね合わせ精度:30nm 以下(500μm フィールド)
・最大試料サイズ:6 inch
・走査クロック周波数:100MHz
    電子ビーム描画装置 [ELS-F125]
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