【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2024.06.25】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22IT0020

利用課題名 / Title

微細光導波路の試作

利用した実施機関 / Support Institute

東京工業大学 / Tokyo Tech.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

リソグラフィ, 膜加工・エッチング

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

増山 圭

所属名 / Affiliation

三菱電機株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

西山伸彦

利用形態 / Support Type

（主 / Main）共同研究/Joint Research（副 / Sub）,機器利用/Equipment Utilization

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

IT-003：マスクレス露光装置
IT-006：走査型電子顕微鏡
IT-012：リアクテブイオンエッチング装置
IT-013：ICPリアクテブイオンエッチング装置
IT-015：SiO2プラズマCVD 装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

光通信デバイス向けに有力視されているシリコンフォトニクス加工技術開発を目的に、シリコン基板上に光回路、光デバイスを集積する加工プロセスを実施した。

実験 / Experimental

用意した基板への薄膜堆積（プラズマCVD装置PD-100ST）、リソグラフィ（MX-1204）、ドライエッチング（RIE-10NR、ICP-101RF）、により導波路構造を形成し、電子顕微鏡（SU8200）を用いて形状観察を行った。

結果と考察 / Results and Discussion

Fig. 1に作製した導波路構造を示す。マスクレス露光装置（MX-1204）を用いた微細加工の可否を検証するため、先端がとがったテーパ構造を作製した。微細な先端寸法を得るためレジスト塗布条件、露光条件を調整し、寸法250nmを得る事ができた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

Fig. 1 電子線顕微鏡像

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件