【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.29】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22AT0012
利用課題名 / Title
チップ表面の化学状態分析
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
超電導回路,Nb線形共振器,Nb2O5
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
永作 美有
所属名 / Affiliation
産業技術総合研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
超電導回路の特性向上のためには表面の残留有機物や酸化膜の有無及び組成を調べることが重要である。今回、Siウェハ上に形成したNb線形共振器において、保護レジストの有機剥離後に行うアッシング時間別にチップ表面のXPSスペクトルを測定し最適条件の検討を行った。
実験 / Experimental
・使用装置
【NPF074】エックス線光電子分光分析装置(XPS)
【NPF075】解析用PC(XPS用)
・実験方法
各サンプルのNb表面をAlKα線でPass Enargy:5, Sweeps:3, Step(meV) C1s,O1s: 0.1 / Nb3d: 0.02, Neutralizer: Onの条件でNb3d,C1s,O1sスペクトルの測定を行った。
サンプルは以下に示す。
(i) アッシングなし
(ii) アッシング2分
(iii) アッシング4分
(iv) アッシング6分
結果と考察 / Results and Discussion
測定結果をFig.に示す。
Nb3dはアッシング時間に比例してNb2O5ピーク強度が大きくなっていることから、アッシング時間が長くなるとNb表面の酸化が進むことが分かった。
しかし、C1sのピーク強度はFig.(iii)アッシング4分を境目に減少し、Fig.(iv)アッシング６分と比較するとピーク強度の変化があまり見られないことが分かった。
検討の結果、アッシング時間は4分が最適と結論した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. Nb表面のNb3d, C1s, O1sスペクトル結果(i)アッシングなし (ii)アッシング2分 (iii) アッシング4分 (iv)アッシング6分
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件