【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.04.28】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22KT1234
利用課題名 / Title
高強度テラヘルツ波パルス発生と分子制御研究への応用
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
テラヘルツ波波形計測,分子制御,有機非線形結晶,電場波形,電気計測,赤外・可視・紫外分光/Infrared and UV and visible light spectroscopy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
横山 啓一
所属名 / Affiliation
日本原子力研究開発機構 物質科学研究センター
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術相談/Technical Consultation
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
テラヘルツ波パルス列により、高効率かつ高選択的なエネルギー注入技術が創出される可能性がある。その原理実証のため、ナノハブ拠点保有のCr4+:Forsteriteレーザーを用いたテラヘルツ波パルス発生技術の確立を目的として実験を行っている。今回もテラヘルツ波パルスの波形計測及び発生特性把握を目指して実験を継続した
実験 / Experimental
テラヘルツ波波形計測にはEOサンプリング法を用いた。すなわち、テラヘルツ波の電場強度と向きに合わせてプローブパルスの偏光面が変化する現象を利用してテラヘルツ波波形を計測する。テラヘルツ波発生用のOH１結晶を検出にも利用するため、テラヘルツ波とプローブパルスの結晶中での相互作用を詳しく調べる必要がある。今回はプローブパルスとポンプパルスを対向入射の配置とした。
結果と考察 / Results and Discussion
検出部入口のアイリスを絞った場合と開放にした場合でEO信号の変動に大きな差が観測された（図）。EOサンプリング法が通常利用している偏光面の回転のみを見ているのであれば、このアイリス依存性を説明できない。前回観測した屈折の影響をアイリスを絞った時に優先的に観測している可能性がある。さらに、時間原点よりも早い時刻から信号が現れることから対向するテラヘルツ波の電場を感じて屈折が起こっている可能性が示唆された。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図．対向入射配置でのEO信号のアイリス依存性。アイリス最小時はテラヘルツ波電場による屈折の影響をプローブしている可能性がある。負の遅延時間で信号が観測されることから並行ではなく対向で重なるテラヘルツ波の影響を感じていると考えられる。
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件