【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.17】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22BA0040
利用課題名 / Title
イオンミリング装置を利用した各種材料の表面研磨、断面試料の作製
利用した実施機関 / Support Institute
筑波大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
イオンミリング,電子顕微鏡/Electron microscopy,膜加工・エッチング/Film processing and Etching,スパッタリング/Sputtering
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
関口 隆史
所属名 / Affiliation
筑波大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
走査電子顕微鏡観察試料作製のために、ARIMのイオンミリング装置（IM4000）を使用する。
① 表面のコンタミネーションの除去
・断面試料 ・斜め研磨試料を作製する。
② NEG膜の膜厚評価を行う。
実験 / Experimental
① SEMの電子検出器のアクセプタンスを評価するために、ステンレス(SUS)球（直径0.5㎜）の表面をイオンミリング装置を用いて研磨した。
② SUS板の上に堆積させたNEG層の膜厚を測定するためにSUS板を切断し、断面をイオンミリング装置で研磨した。
結果と考察 / Results and Discussion
① イオンミリング前は、表面に汚れが付着して反射電子像強度がばらついていた。イオンミリング後はSUS球表面が鏡面となり、反射電子強度が均一になった。これを用いてSEMの電子検出器のアクセプタンス評価を行うことができた。
② イオンミリングによって、機械的に切断したNEG/SUS断面が研磨され、堆積したままの状態のNEG層が観察できた。これによって、NEG層の厚さを正確に測定することができた。また、EDX分析により、NEG層の組成分析を行うことができた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 園田 涼輔, 三谷 亮太, 関口 隆史, ”金属球を使ったアウトレンズ検出器の特性評価”, 日本顕微鏡学会, 令和5年5月11日
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件