【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22BA0025
利用課題名 / Title
マスクアライナーを使用したCIGS太陽電池のデバイスのパターニング
利用した実施機関 / Support Institute
筑波大学 / Tsukuba Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
リソグラフィ/Lithography
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
櫻井 岳暁
所属名 / Affiliation
筑波大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
櫻井岳暁,Hamidou Tangara,益子尚希,岡野優太
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
BA-011：微細パターン形成装置群（スピンコーター、マスクアライナー）
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
CIGS太陽電池のZnO透明導電膜はプロセス上メカニカルスクライブ法を用いて加工される。ただし、電気特性評価には電極面積を規格化する必要があり、リソグラフィーシステムを使いZnOを直径0.5 mmφに加工する必要がある。
実験 / Experimental
ZnO電極にマスクパターンを露光し、0.5 mmφの電極を形成した。
結果と考察 / Results and Discussion
形成した電極を用いて太陽電池特性を評価したところ、メカニカルスクライブ法と同等の性能を確認できた。これを用い、太陽電池の光容量法、アドミッタンススペクトロスコピー法の評価を実施することができ、信頼できる結果を得ることに成功した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
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Hamidou Tangara, Analysis of the combined effect of long-term heat light soaking and KF/NaF post-deposition treatment on the open-circuit voltage loss in CIGS solar cells, Japanese Journal of Applied Physics, 61, SC1050(2022).
DOI: 10.35848/1347-4065/ac4356
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件