【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.29】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22NU0258
利用課題名 / Title
シリコン深堀エッチング加工形状の最適化
利用した実施機関 / Support Institute
名古屋大学 / Nagoya Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
ボッシュプロセス,膜加工・エッチング/Film processing and Etching,蒸着・成膜/Evaporation and Deposition
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
山本 博
所属名 / Affiliation
コーデンシ株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
大友 喬史
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
シリコンに深堀りエッチングを施し、そのエッチング側面に隙間なくメタル被覆を目的とする。
従来（別機関にて試作）はスキャロップが大きく、隙間なくメタル被覆ができなかったため、
エッチング条件の最適化によりスキャロップを抑えたエッチング面形成を試みる。
実験 / Experimental
別機関で使用していたエッチングレシピをベースに、エッチング側面形状、深さを確認しながら
ガス流量（CF6、C4F8、O2）、ICP、ステップ時間の最適条件を探り、エッチングサンプルを作成後、
自社内にてメタル成膜を行い被覆性の評価を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
当初想定していたスキャロップ形状は形成できたが、目的としていたメタルの完全被覆に至らなかった。
エッチング条件を調整して更にスキャロップの低減を試みようとしたが、形状や深さが安定しない。
また、自社で行うメタル成膜が不均一で十分な厚みが形成できていないことも判明したため
スキャロップの狙い形状とその後に行うメタル成膜方法の両面で条件を見直すこととする。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
なし。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件