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- 22NI0808
- R2Al3ハニカム層をもつR2Pd6Al15とR4Pd9Al24の新物質探査
- 2023.8.1
- 名古屋工業大学
- 22NI0807
- 新物質R Ni6Si6の物性（R＝希土類）
- 2023.8.1
- 名古屋工業大学
- 22NI0806
- カイラル磁性体YbNi3Al9の不斉合成
- 2023.8.1
- 名古屋工業大学
- 22NI0805
- 錯体の観察
- 2023.8.1
- 名古屋工業大学
- 22NI0804
- アルコキシフェニル基を有するビス(ジオキサボリン)誘導体の集合構造に基づく固体物性
- 2023.8.1
- 名古屋工業大学
- 22NI0803
- ホウ素キレート化および光照射によるキナクリドンキノンからジヒドロキシキナクリドンへの還元反応に関する研究
- 2023.8.1
- 名古屋工業大学
- 22NI0801
- 窒素分子の活性化を目指したクロム錯体の合成
- 2023.8.1
- 名古屋工業大学
- 22NI0204
- 酸化物薄膜の構造制御に関する研究 －酸化タングステンスパッタ膜の斜め成長－
- 2023.8.1
- 名古屋工業大学
- 22NI0203
- フッ化ネオジム薄膜の真空紫外光伝導性への薄膜/基板界面の影響
- 2023.8.1
- 名古屋工業大学
- 22NI0202
- 酸化チタンーグラフェン複合体光触媒の耐久性に関する研究
- 2023.8.1
- 名古屋工業大学