スパッタリング蒸着装置
設備ID | NI-102 |
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分類 | 成膜装置 > スパッタリング(スパッタ) |
装置名称 | スパッタリング蒸着装置 (Sputtering Deposition Apparatus) |
設置機関 | 名古屋工業大学 |
設置場所 | 名古屋工業大学御器所キャンパス |
メーカー名 | アルバック (ULVAC, Inc.) |
型番 | SPC-2000HC |
キーワード | 薄膜、磁性体、半導体 スパッタリング(スパッタ)/ Sputtering |
仕様・特徴 | ヘリコン波励起スパッタリング RF電源13.56MHz 200W |