電界電離ガスイオン源搭載集束イオンビーム装置
設備ID | JI-016 |
---|---|
分類 |
微小加工装置 > 集束イオンビーム(FIB) 熱処理・ドーピング > イオン注入 |
装置名称 | 電界電離ガスイオン源搭載集束イオンビーム装置 (GFIS-FIB) |
設置機関 | 北陸先端科学技術大学院大学(JAIST) |
設置場所 | JAISTイノベーションプラザ |
メーカー名 | 日立ハイテクサイエンス (Hitachi High-Tech Science) |
型番 | MR-GFIS |
キーワード | L. 微小加工装置/ Microfabrication equipment 集束イオンビーム(FIB)/ Focused ion beam 直接微細加工 |
仕様・特徴 | N2イオンビームによる低汚染のFIB加工 最少加工幅:約10nm |