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電界電離ガスイオン源搭載集束イオンビーム装置

設備ID JI-016
分類 微小加工装置 > 集束イオンビーム(FIB)
熱処理・ドーピング > イオン注入
装置名称 電界電離ガスイオン源搭載集束イオンビーム装置 (GFIS-FIB)
設置機関 北陸先端科学技術大学院大学(JAIST)
設置場所 JAISTイノベーションプラザ
メーカー名 日立ハイテクサイエンス (Hitachi High-Tech Science)
型番 MR-GFIS
キーワード 直接微細加工
仕様・特徴 N2イオンビームによる低汚染のFIB加工
最少加工幅:約10nm
    電界電離ガスイオン源搭載集束イオンビーム装置
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