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光学干渉式膜厚計

設備ID	HK-626
分類	その他分析装置 > 膜厚測定
装置名称	光学干渉式膜厚計 ( Film thickness measurement instruments)
設置機関	北海道大学
設置場所	創成科学研究棟クリーンルーム
メーカー名	フィルメトリクス (Filmetrics)
型番	F20-UV
キーワード	膜厚シミュレーション
仕様・特徴	膜厚測定範囲：1nm - 40µm 測定波長域：190-1100nm