デュアルビーム加工観察装置
設備ID | NM-509 |
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分類 |
微小加工装置 > 集束イオンビーム(FIB) 走査型顕微鏡 > 走査型電子顕微鏡 |
装置名称 | デュアルビーム加工観察装置 (Dual Beam system) |
設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
設置場所 | NIMS千現地区 精密計測実験棟129号室 |
メーカー名 | 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Technologies) |
型番 | NB5000 |
キーワード | 電子顕微鏡薄片加工 Gaイオンビーム |
仕様・特徴 | ・FIB:加速電圧1~40 kV、最大電流50nA、倍率x600~ ・SEM:加速電圧0.5~30kV、分解能1nm@15kV, 倍率x250~ ・付属:マイクロサンプリング、STEM, EDS |