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高温イオン注入装置

設備ID RO-212
分類 熱処理・ドーピング > イオン注入
装置名称 高温イオン注入装置 (Ion implanter)
設置機関 広島大学
設置場所 CR西棟1F
メーカー名 アルバック (ULVAC, Inc.)
型番 IMX-3500 (手動高温仕様)
キーワード 対応wafer:6inch、cut wafer
仕様・特徴 500℃、 ~200kV,
Al,B,As,P,Si,F,Ar,N,He 等注入可能
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