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プラズマCVD(PECVD)装置

設備ID	RO-315
分類	成膜装置 > 化学蒸着（CVD）装置
装置名称	プラズマCVD(PECVD)装置 (Plasma-enhanced CVD reactor)
設置機関	広島大学
設置場所	CR西棟１F
メーカー名	アルパック (ULVAC, Inc.)
型番	CPD-1108S
キーワード	対応wafer：２inch、cut wafer
仕様・特徴	SiO₂,SiN薄膜の堆積