共用設備検索

マスクレス露光装置

設備ID	RO-113
分類	リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画）
装置名称	マスクレス露光装置 (Maskless photolithography system)
設置機関	広島大学
設置場所	CR東棟１F
メーカー名	ハイデルベルグ・インストルメンツ (Heidelberg Instruments)
型番	MLA-150
キーワード	対応wafer：２～４inch、cut wafer他
仕様・特徴	DMDを用いたレーザー露光装置最小画素：1μm