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マスクレス露光装置

設備ID RO-113
分類 リソグラフィ > 光露光(マスクレス、直接描画)
装置名称 マスクレス露光装置 (Maskless photolithography system)
設置機関 広島大学
設置場所 CR東棟1F
メーカー名 ハイデルベルグ・インストルメンツ (Heidelberg Instruments)
型番 MLA-150
キーワード 対応wafer:2~4inch、cut wafer他
仕様・特徴 DMDを用いたレーザー露光装置
最小画素:1μm
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