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ICP高密度プラズマエッチング装置(フッ素) (ICP-RIE Etching Systems(F))
- 設備ID
- HK-620
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像

- メーカー名
- サムコ (samco)
- 型番
- RIE-101iPH
- 仕様・特徴
- 使用ガス:SF6、C4F8、CF4、Ar、O2、CHF3、C3F8
試料サイズ:最大4インチ
- 設備状況
- 稼働中
反応性イオンエッチング装置 (Reactive ion Etching Systems)
- 設備ID
- HK-621
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像

- メーカー名
- サムコ (samco)
- 型番
- RIE-10NRV
- 仕様・特徴
- 使用ガス:CF4、Ar、O2、CHF3
試料サイズ:最大8インチ
- 設備状況
- 稼働中
NLDドライエッチング装置 (NLD Dry Etching System)
- 設備ID
- HK-622
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像

- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- NLD-500
- 仕様・特徴
- 使用ガス:SF6、CF4、CHF3、Ar、O2、C3F8
試料サイズ:最大4インチ
- 設備状況
- 稼働中
イオンミリング装置 (Ion milling system)
- 設備ID
- HK-623
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像

- メーカー名
- アルバック (Ulvac)
- 型番
- IBE-6000S
- 仕様・特徴
- 使用ガス:Ar
試料サイズ:最大3インチ
- 設備状況
- 稼働中
シリコン深掘りエッチング装置 (Si Deep RIE System)
- 設備ID
- HK-624
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像

- メーカー名
- SPPテクノロジーズ (SPP Technologies)
- 型番
- APX-Pegasus-Polestar
- 仕様・特徴
- 使用ガス:SF6、C4F8、Ar、O2
試料サイズ:最大4インチ
- 設備状況
- 稼働中
高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡 (Field emission electron microscope)
- 設備ID
- HK-625
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像

- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JSM-6700FT
- 仕様・特徴
- 加速電圧:5-30kV
EDS機能
試料サイズ:小片~25mm角
- 設備状況
- 稼働中
光学干渉式膜厚計 ( Film thickness measurement instruments)
- 設備ID
- HK-626
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像

- メーカー名
- フィルメトリクス (Filmetrics)
- 型番
- F20-UV
- 仕様・特徴
- 膜厚測定範囲:1nm - 40µm
測定波長域:190-1100nm
- 設備状況
- 稼働中
真空紫外露光装置 (Vacuum ultraviolet light exposure system)
- 設備ID
- HK-627
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像

- メーカー名
- エヌ工房 (N ceator)
- 型番
- PC-01-H
- 仕様・特徴
- 試料サイズ:最大1インチ
- 設備状況
- 稼働中
卓上型ランプ加熱装置 (Infrared Gold Image Furnace / RTA System Mini Lamp Annealer)
- 設備ID
- HK-628
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像

- メーカー名
- アドバンス理工 (ADVANCE RIKO,Inc.)
- 型番
- MILA-5000
- 仕様・特徴
- 温度範囲:RT ~ 1200℃
試料寸法:角 20mm × 厚 2mm
加熱雰囲気:大気中、真空中、不活性ガス中
到達真空度:6.5Pa(RP使用、室温無負荷)
- 設備状況
- 稼働中
ガラスインプリント装置 (High Precision Optical Glass Molding Press Machine)
- 設備ID
- HK-629
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像

- メーカー名
- 東芝機械株式会社 (TOSHIBA MACHINE)
- 型番
- GMP-415V
- 仕様・特徴
- ナノ~マイクロメートルサイズの鋳型をガラス基板上に転写することで、ガラスの微細構造体を作製することが可能
- 設備状況
- 稼働中