共用設備検索結果
高速高精度電子ビーム描画装置 (Ultra-High Precision Electron Beam Lithography)
- 設備ID
- KT-101
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)エリオニクス (ELIONIX INC.)
- 型番
- ELS-F125HS
- 仕様・特徴
- 加速電圧125kVを採用した電子線描画装置。最小ビーム径をΦ1.7nmにすることにより最小加工線幅5nmが可能。
・加速電圧：125kV、100kV、75kV、50kV、25kV
・最小ビーム径：1.7nm＠125kV
・描画最小線幅：5nm＠125kV
露光装置（ステッパー） (i-line Stepper)
- 設備ID
- KT-102
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)ニコン (NIKON CORPORATION)
- 型番
- NSR-2205i11D
- 仕様・特徴
- i線光源を用いたステップアンドリピート方式の縮小投影露光装置。
・解像度：<0.35μm
・光源：i線（365nm）
・絞り：通常、輪帯、Shrink
・縮小倍率：1/5倍（N.A. 0.63、0.57）
・露光範囲：MAX □22mm
・アライメント：LSA、FIA
・基板サイズ：Φ4,Φ6（透明基板対応）
レーザー直接描画装置 (Laser Pattern Generator )
- 設備ID
- KT-103
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ハイデルベルグ・インストルメンツ(株) (Heidelberg Instruments)
- 型番
- DWL2000
- 仕様・特徴
- 偏向変調されたΦ1umのLDビーム、高精度制御のステージとの組み合わせにより微細パターンを描画。
・光源：h線LD（405nm）
・基板サイズ：MAX □200mm
・描画サイズ：min0.7μm
・グレースケール露光対応
高速マスクレス露光装置 (High Speed Maskless Laser Lithography )
- 設備ID
- KT-104
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)ナノシステムソリューションズ (NanoSystem Solutions, Inc.)
- 型番
- D-light DL-1000GS/KCH
- 仕様・特徴
- グレースケール露光機能を備えたDMD方式の高速マスクレス露光装置。
・光源：h線LED（405nm）>1W/cm2
・基板サイズ：MAXΦ6インチ
・最小画素:１μm
・グレースケール露光機能（最大256階調）
・厚膜レジスト対応（>100μm以上）
紫外線露光装置 (Contact Mask Aligner)
- 設備ID
- KT-106
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)ミカサ (MIKASA CORPORATION)
- 型番
- MA-10
- 仕様・特徴
- 不定形試料に対応した実験用マスクアライナ。
・光源：高圧UVランプ250W（g、h、i線）～10mW/cm2
・基板サイズ：MAXΦ4（不定形対応）
・マスクサイズ：□5、□2.5
・基板厚さ：MAX2mm
厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置 (Advanced Spin Coater )
- 設備ID
- KT-107
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec)
- 型番
- DELTA80 T3/VP SPEC-KU
- 仕様・特徴
- 高粘度レジスト対応の最大6スピンコータシステム。
・基板サイズ：Φ4、Φ6、小片基板
・対応レジスト：タンク圧送（10～400cP、800～4,000cP）、シリンジ圧送（10～600cP）
・溶剤リンス：パドル、エッジビード、バックサイド
・GRYSET方式対応
・付帯設備：ホットプレート、ベーパープライマ（HMDS）
レジスト塗布装置 (Photoresist Spin Coater )
- 設備ID
- KT-108
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KRC-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式スピンコーター。
・基板サイズ：Φ2～Φ6 □4-□5
・搭載レジスト：THMR-iP1800EP（10cP）、TDMR-AR80HP（5cP）
・エッジリンス付
スプレーコータ (Photoresist Spray Coater)
- 設備ID
- KT-109
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- ウシオ電機(株) (Ushio Inc.)
- 型番
- USC-2000ST
- 仕様・特徴
- レジスト噴霧方式により凹凸基板へのコンフォーマルコーティングを実現。
・基板サイズ：Φ4～6（塗布領域：MAX□4）
レジスト現像装置 ( Photoresist Developer)
- 設備ID
- KT-110
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KD-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式アルカリ現像装置。
・基板サイズ：Φ2～Φ6、□2.5、□5、不定形
・現像液：アルカリ（TMAH 2.38%）
・現像方式：スプレー、パドル
・対応レジスト：UVレジスト、EBレジスト（NEB22）ほか
ウエハスピン洗浄装置 (Wafer Spin Cleaner )
- 設備ID
- KT-111
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KSC-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式ウエハ洗浄装置。
・基板サイズ：Φ2-Φ6、□2.5、□5、□7、不定形
・洗浄方式：ピラニア、メガソニック、２流体、純水