共用設備検索結果
高速高精度電子ビーム描画装置 (Ultra-High Precision Electron Beam Lithography)
- 設備ID
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像

- メーカー名
- (株)エリオニクス (ELIONIX INC.)
- 型番
- ELS-F125HS
- 仕様・特徴
- 加速電圧125kVを採用した電子線描画装置。最小ビーム径をΦ1.7nmにすることにより最小加工線幅5nmが可能。
・加速電圧:125kV、100kV、75kV、50kV、25kV
・最小ビーム径:1.7nm@125kV
・描画最小線幅:5nm@125kV
露光装置(ステッパー) (i-line Stepper)
- 設備ID
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像

- メーカー名
- (株)ニコン (NIKON CORPORATION)
- 型番
- NSR-2205i11D
- 仕様・特徴
- i線光源を用いたステップアンドリピート方式の縮小投影露光装置。
・解像度:<0.35μm
・光源:i線(365nm)
・絞り:通常、輪帯、Shrink
・縮小倍率:1/5倍(N.A. 0.63、0.57)
・露光範囲:MAX □22mm
・アライメント:LSA、FIA
・基板サイズ:Φ4,Φ6(透明基板対応)
レーザー直接描画装置 (Laser Pattern Generator )
- 設備ID
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像

- メーカー名
- ハイデルベルグ・インストルメンツ(株) (Heidelberg Instruments)
- 型番
- DWL2000
- 仕様・特徴
- 偏向変調されたΦ1umのLDビーム、高精度制御のステージとの組み合わせにより微細パターンを描画。
・光源:h線LD(405nm)
・基板サイズ:MAX □200mm
・描画サイズ:min0.7μm
・グレースケール露光対応
高速マスクレス露光装置 (High Speed Maskless Laser Lithography )
- 設備ID
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像

- メーカー名
- (株)ナノシステムソリューションズ (NanoSystem Solutions, Inc.)
- 型番
- D-light DL-1000GS/KCH
- 仕様・特徴
- グレースケール露光機能を備えたDMD方式の高速マスクレス露光装置。
・光源:h線LED(405nm)>1W/cm2
・基板サイズ:MAXΦ6インチ
・最小画素:1μm
・グレースケール露光機能(最大256階調)
・厚膜レジスト対応(>100μm以上)
両面マスクアライナー (Manual High Precision Double-Sided Mask Aligner)
- 設備ID
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像

- メーカー名
- ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec)
- 型番
- MA6 BSA SPEC-KU/3
- 仕様・特徴
- 高性能手動両面マスクアライナ装置。
・光源:高圧UVランプ350W(h、i線)
・基板サイズ:Φ2~Φ6
・露光モード:コンタクト(ソフト、ハード)、プロキシミティ
・アライメント精度 :±0.5μm@表面、 ±0.1μm@裏面
・厚膜レジスト対応
紫外線露光装置 (Contact Mask Aligner)
- 設備ID
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像

- メーカー名
- (株)ミカサ (MIKASA CORPORATION)
- 型番
- MA-10
- 仕様・特徴
- 不定形試料に対応した実験用マスクアライナ。
・光源:高圧UVランプ250W(g、h、i線)~10mW/cm2
・基板サイズ:MAXΦ4(不定形対応)
・マスクサイズ:□5、□2.5
・基板厚さ:MAX2mm
厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置 (Advanced Spin Coater )
- 設備ID
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像

- メーカー名
- ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec)
- 型番
- DELTA80 T3/VP SPEC-KU
- 仕様・特徴
- 高粘度レジスト対応の最大6スピンコータシステム。
・基板サイズ:Φ4、Φ6、小片基板
・対応レジスト:タンク圧送(10~400cP、800~4,000cP)、シリンジ圧送(10~600cP)
・溶剤リンス:パドル、エッジビード、バックサイド
・GRYSET方式対応
・付帯設備:ホットプレート、ベーパープライマ(HMDS)
レジスト塗布装置 (Photoresist Spin Coater )
- 設備ID
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像

- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KRC-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式スピンコーター。
・基板サイズ:Φ2~Φ6 □4-□5
・搭載レジスト:THMR-iP1800EP(10cP)、TDMR-AR80HP(5cP)
・エッジリンス付
スプレーコータ (Photoresist Spray Coater)
- 設備ID
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像

- メーカー名
- ウシオ電機(株) (Ushio Inc.)
- 型番
- USC-2000ST
- 仕様・特徴
- レジスト噴霧方式により凹凸基板へのコンフォーマルコーティングを実現。
・基板サイズ:Φ4~6(塗布領域:MAX□4)
レジスト現像装置 ( Photoresist Developer)
- 設備ID
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像

- メーカー名
- (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
- 型番
- KD-150CBU
- 仕様・特徴
- 汎用的な枚葉式アルカリ現像装置。
・基板サイズ:Φ2~Φ6、□2.5、□5、不定形
・現像液:アルカリ(TMAH 2.38%)
・現像方式:スプレー、パドル
・対応レジスト:UVレジスト、EBレジスト(NEB22)ほか