共用設備検索結果
パリレンコーティング装置 (Parylene coating system)
- メーカー名
- KISCO (KISCO)
- 型番
- DACS-LAB
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・蒸着チャンバー寸法：ID300×H350 mm
・回転：0.5～10rpm
高精度電子線描画装置 (Scanning electron microscope with add-on lithography system )
- メーカー名
- 日本電子 サンユー電子 (JEOL Sanyu Electron)
- 型番
- JSM-7000FK SPG-724
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・分解能：1.2 nm(30kV)
・倍率：×10～×1,000,000
・試料室：最大200 mm
・描画方式：ラスタースキャン方式/ブロックスキャン方式
・描画フィールド：50 µm□/100 µm□/200 µm□/500 µm□（ラスタースキャン），2,500 µm□，1ブロック＝2.5 µm□（ブロックスキャン）
両面露光用マスクアライナ (Mask aligner)
- メーカー名
- Suss MicroTec AG (Suss MicroTec AG)
- 型番
- MJB-3
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・最大ウェーハサイズ：3 inch（吸引モード），4 inch（ソフトコンタクト）
・照射範囲：3×3 inch
・対応基板厚さ：4.5 mm
両面露光：可能（赤外線照明）
マスクアライナ (Mask aligner)
- メーカー名
- ナノテック (Nanometric Technology)
- 型番
- LA410
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・適応マスク：最大 5 inch
・適応資料：最大Φ4 inch
・有効露光範囲：Φ80 mm以上
共焦点レーザ顕微鏡 (Confocal laser microscope)
- メーカー名
- ニコン (Nikon)
- 型番
- A1Rsi-N
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・蛍光励起レーザ：405 nm，488 nm，561 nm，635 nm
・対物レンズ：100倍，10倍，20倍
SEM用断面試料作製装置 (Cross section polisher)
- メーカー名
- JEOL (JEOL)
- 型番
- SM-09010
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・イオン加速電圧：2～6 kV
・イオンビーム径：500 μm（半値幅）
・最大搭載試料サイズ：幅11 mm × 長さ10 mm × 厚さ2 mm
・試料移動範囲：X軸：±3 mm，Y軸：±3 mm
デジタルマイクロスコープ (Digital microscope)
- メーカー名
- KEYENCE (KEYENCE)
- 型番
- VK-9700
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・分解能：高さ方向 0.01 μm
・水平方向 0.13 μm
・最大観察倍率：3,000倍
・測定用光源：波長 408 nm
デジタルマイクロスコープ (Digital microscope)
- メーカー名
- KEYENCE (KEYENCE)
- 型番
- VK-9510
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・分解能：高さ方向 0.01 μm
・水平方向 0.14 μm
・最大観察倍率：3,000倍
・測定用光源：波長 408 nm
Deep Si Etcher (Deep Si Etcher)
- メーカー名
- 住友精密工業 (Sumitomo Precision Products)
- 型番
- Multiplex-ASE
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・ウェーハサイズ：6 inch
・ボッシュプロセス対応
両面露光用マスクアライナ (Mask aligner)
- メーカー名
- ユニオン光学 (Union)
- 型番
- PEM800
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・両面露光が可能
・対応基板サイズ：最大４インチ
・最小パターン：3.0μm