共用設備検索結果
走査型電子顕微鏡 (Scanning electron microscope)
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- S4300
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・加速電圧：0.5kV～15kV
・分解能：15nm(30kV)
・倍率：～500,000
・最大試料サイズ：直径100 mm
スパッタ絶縁膜作製装置 (Insulator sputtering system)
- メーカー名
- MESアフティ (MES Afty)
- 型番
- AFTEX-3420
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・対応基板サイズ：最大3インチ
・酸化膜，窒化膜用
段差計 (Surface profiler)
- メーカー名
- アルバック (ULVAC)
- 型番
- Dektak150
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・触針式
・垂直分解能：10nm
・測定距離：50 µm～55 mm
マスクレス露光装置 (Maskless lithography)
- メーカー名
- ナノシステムソリューションズ (Nanosystem Solutions)
- 型番
- DL-1000
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・最大露光面積：200 mm x 200 mm
・最小画素：1 µm（高精細露光機能付）
・つなぎ合わせ精度：0.1 µm
・重ね合わせ精度：±1 µm
・オートフォーカス機能有
原子層堆積装置 (Atomic layer deposition)
- メーカー名
- サムコ (Samco)
- 型番
- AD-100LE
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・Al2O3, SiO2, AlOxNy, SiOxNy成膜用
・基板サイズ：212 mmΦ
・加熱温度：最大500℃
・ガス導入系：有機金属系2系統，H2O，O2，N2
蛍光りん光分光光度計 (Fluorescence spectroscopy)
- メーカー名
- 堀場製作所 (HORIBA)
- 型番
- Fluoromax-4P
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・光源：オゾンレスキセノンランプ，燐光用フラッシュランプ
・試料最大サイズ：～10mm角程度
・燐光寿命計測範囲：10μs以上
・発光波長計測範囲：290-970nm
ICPエッチング装置 (ICP etching)
- メーカー名
- サムコ (Samco)
- 型番
- RIE-200iPN
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・対応基板サイズ：2インチ x 4枚
・プロセスガス：Cl2, BCl3, O2
超高密度大気圧プラズマ装置 (Ultra-high density atomospheric pressure plasma system)
- メーカー名
- FUJI (FUJI)
- 型番
- 特注
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・大気圧プラズマ中のラジカルを用いた材料の表面処理（改質、洗浄）
・使用ガス：Ar，N2．Ar+O2
・電源：AC交流電源、9 kV，60 Hz
In-situ電子スピン共鳴 (In-situ electron spin resonance)
- メーカー名
- Bruker (Bruker)
- 型番
- EMX Premium X
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・試料中に存在する不対電子のリアルタイム計測
・気体分析可能
・サンプルサイズ： 5 mm幅以下
ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 (Multipurpose plasma process system with radical monitor)
- メーカー名
- 自作 (Lab made)
- 型番
- 設備画像
- 設置機関
- 名古屋大学
- 仕様・特徴
- ・プラズマ処理の際に生成する温度，ラジカル密度，励起種，表面分析をIn-situで行う．
・プロセスガス：H2，N2，Ar，O2，He
・基板温度：－10℃-60℃
・サンプル：4インチウエハ