1. ホーム>
  2. 共用設備検索

共用設備検索結果

フリーワード検索

走査型電子顕微鏡 (Scanning electron microscope)

メーカー名
日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
型番
S4300
設備画像
走査型電子顕微鏡
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・加速電圧:0.5kV~15kV
・分解能:15nm(30kV)
・倍率:~500,000
・最大試料サイズ:直径100 mm

スパッタ絶縁膜作製装置 (Insulator sputtering system)

メーカー名
MESアフティ (MES Afty)
型番
AFTEX-3420
設備画像
スパッタ絶縁膜作製装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・対応基板サイズ:最大3インチ
・酸化膜,窒化膜用

段差計 (Surface profiler)

メーカー名
アルバック (ULVAC)
型番
Dektak150
設備画像
段差計
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・触針式
・垂直分解能:10nm
・測定距離:50 µm~55 mm

マスクレス露光装置 (Maskless lithography)

メーカー名
ナノシステムソリューションズ (Nanosystem Solutions)
型番
DL-1000
設備画像
マスクレス露光装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・最大露光面積:200 mm x 200 mm
・最小画素:1 µm(高精細露光機能付)
・つなぎ合わせ精度:0.1 µm
・重ね合わせ精度:±1 µm
・オートフォーカス機能有

原子層堆積装置 (Atomic layer deposition)

メーカー名
サムコ (Samco)
型番
AD-100LE
設備画像
原子層堆積装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・Al2O3, SiO2, AlOxNy, SiOxNy成膜用
・基板サイズ:212 mmΦ
・加熱温度:最大500℃
・ガス導入系:有機金属系2系統,H2O,O2,N2

蛍光りん光分光光度計 (Fluorescence spectroscopy)

メーカー名
堀場製作所 (HORIBA)
型番
Fluoromax-4P
設備画像
蛍光りん光分光光度計
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・光源:オゾンレスキセノンランプ,燐光用フラッシュランプ
・試料最大サイズ:~10mm角程度
・燐光寿命計測範囲:10μs以上
・発光波長計測範囲:290-970nm

ICPエッチング装置 (ICP etching)

メーカー名
サムコ (Samco)
型番
RIE-200iPN
設備画像
ICPエッチング装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・対応基板サイズ:2インチ x 4枚
・プロセスガス:Cl2, BCl3, O2

超高密度大気圧プラズマ装置 (Ultra-high density atomospheric pressure plasma system)

メーカー名
FUJI (FUJI)
型番
特注
設備画像
超高密度大気圧プラズマ装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・大気圧プラズマ中のラジカルを用いた材料の表面処理(改質、洗浄)
・使用ガス:Ar,N2.Ar+O2
・電源:AC交流電源、9 kV,60 Hz

In-situ電子スピン共鳴 (In-situ electron spin resonance)

メーカー名
Bruker (Bruker)
型番
EMX Premium X
設備画像
In-situ電子スピン共鳴
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・試料中に存在する不対電子のリアルタイム計測
・気体分析可能
・サンプルサイズ: 5 mm幅以下

ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 (Multipurpose plasma process system with radical monitor)

メーカー名
自作 (Lab made)
型番
設備画像
ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・プラズマ処理の際に生成する温度,ラジカル密度,励起種,表面分析をIn-situで行う.
・プロセスガス:H2,N2,Ar,O2,He
・基板温度:-10℃-60℃
・サンプル:4インチウエハ
スマートフォン用ページで見る