共用設備検索結果
フォトリソグラフィ装置群 (photo lighography system)
- 設備ID
- NU-223
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 共和理研 (Kyowariken)
- 型番
- K310P100S
- 仕様・特徴
- ・最大2インチ基板
・マスクサイズ:3インチ
・最小パタンサイズ 2µm
・スピンコータ,ベーク炉,ドラフトチャンバー利用可
電子ビーム蒸着装置 (Electron beam evaporation)
- 設備ID
- NU-224
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (ULVAC)
- 型番
- EBX-10D
- 仕様・特徴
- ・最大投入電力:5kW
・るつぼ数4
・ハースライナー使用
ICPエッチング装置 (ICP etching)
- 設備ID
- NU-225
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (ULVAC)
- 型番
- CE-300I
- 仕様・特徴
- ・化合物エッチング
・対応基板サイズ:最大6インチ基板
・プロセスガス:Cl2
RIEエッチング装置 (RIE etching)
- 設備ID
- NU-226
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- サムコ (Samco)
- 型番
- RIE-10NR
- 仕様・特徴
- ・シリコン系エッチング
・対応基板サイズ:最大8インチ
・プロセスガス:CF4,Ar,SF6,O2
走査型電子顕微鏡 (Scanning electron microscope)
- 設備ID
- NU-227
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- S5200
- 仕様・特徴
- ・加速電圧:0.5kV~30kV
・分解能:0.5nm(30kV)
・倍率:~2,000,000
・最大試料サイズ:5mm x 9.5mm
走査型電子顕微鏡 (Scanning electron microscope)
- 設備ID
- NU-228
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
- 型番
- S4300
- 仕様・特徴
- ・加速電圧:0.5kV~15kV
・分解能:15nm(30kV)
・倍率:~500,000
・最大試料サイズ:直径100 mm
スパッタ絶縁膜作製装置 (Insulator sputtering system)
- 設備ID
- NU-229
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- MESアフティ (MES Afty)
- 型番
- AFTEX-3420
- 仕様・特徴
- ・対応基板サイズ:最大3インチ
・酸化膜,窒化膜用
マスクレス露光装置 (Maskless lithography)
- 設備ID
- NU-231
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- ナノシステムソリューションズ (Nanosystem Solutions)
- 型番
- DL-1000
- 仕様・特徴
- ・最大露光面積:200 mm x 200 mm
・最小画素:1 µm(高精細露光機能付)
・つなぎ合わせ精度:0.1 µm
・重ね合わせ精度:±1 µm
・オートフォーカス機能有
原子層堆積装置 (Atomic layer deposition)
- 設備ID
- NU-232
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- サムコ (Samco)
- 型番
- AD-100LE
- 仕様・特徴
- ・Al2O3, SiO2, AlOxNy, SiOxNy成膜用
・基板サイズ:212 mmΦ
・加熱温度:最大500℃
・ガス導入系:有機金属系2系統,H2O,O2,N2
蛍光りん光分光光度計 (Fluorescence spectroscopy)
- 設備ID
- NU-233
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 堀場製作所 (HORIBA)
- 型番
- Fluoromax-4P
- 仕様・特徴
- ・光源:オゾンレスキセノンランプ,燐光用フラッシュランプ
・試料最大サイズ:~10mm角程度
・燐光寿命計測範囲:10μs以上
・発光波長計測範囲:290-970nm