1. ホーム>
  2. 共用設備検索

共用設備検索結果

フリーワード検索

電気炉 (Electric furnance)

メーカー名
光洋リンドバーグ (KOYO Lindberg)
型番
MODEL272-2
設備画像
電気炉
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・温度範囲:400-1100℃
・ドライ酸化用

酸化・拡散炉 (Oxidization and diffusion furnance)

メーカー名
光洋リンドバーグ (KOYO Lindberg)
型番
MODEL270-M100
設備画像
酸化・拡散炉
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・温度範囲:600-1150℃
・ウェット酸化用

小型微細形状測定機 (Surface profiler)

メーカー名
小坂研究所 (Kosaka Laboratory)
型番
ET200
設備画像
小型微細形状測定機
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・最大サンプルサイズ:φ160×厚さ48mm
・再現性 :1σ 1nm以内
・測定範囲 :Z:600 µm,X:100mm
・分解能 :Z:0.1 nm,X:0.1 µm
・測定力:10 µN〜500 µN

プラズマCVD装置 (Plasma CVD)

メーカー名
サムコ (Samco)
型番
PD-240
設備画像
プラズマCVD装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・基板加熱:抵抗加熱式 (~400℃)
・適正ウェハ寸法:不定形~3インチ径
・供給ガス:TEOS, O2

レーザー描画装置 (Laser lithography)

メーカー名
Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments)
型番
DWL66FS
設備画像
レーザー描画装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・最小描画サイズ:0.6 µm
・最大描画サイズ:200mm x 200mm
・直描およびガラスマスク作製

フォトリソグラフィ装置群 (photo lighography system)

メーカー名
共和理研 (Kyowariken)
型番
K310P100S
設備画像
フォトリソグラフィ装置群
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・最大2インチ基板
・マスクサイズ:3インチ
・最小パタンサイズ 2µm
・スピンコータ,ベーク炉,ドラフトチャンバー利用可

電子ビーム蒸着装置 (Electron beam evaporation)

メーカー名
アルバック (ULVAC)
型番
EBX-10D
設備画像
電子ビーム蒸着装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・最大投入電力:5kW
・るつぼ数4
・ハースライナー使用

ICPエッチング装置 (ICP etching)

メーカー名
アルバック (ULVAC)
型番
CE-300I
設備画像
ICPエッチング装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・化合物エッチング
・対応基板サイズ:最大6インチ基板
・プロセスガス:Cl2

RIEエッチング装置 (RIE etching)

メーカー名
サムコ (Samco)
型番
RIE-10NR
設備画像
RIEエッチング装置
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・シリコン系エッチング
・対応基板サイズ:最大8インチ
・プロセスガス:CF4,Ar,SF6,O2

走査型電子顕微鏡 (Scanning electron microscope)

メーカー名
日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
型番
S5200
設備画像
走査型電子顕微鏡
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
・加速電圧:0.5kV~30kV
・分解能:0.5nm(30kV)
・倍率:~2,000,000
・最大試料サイズ:5mm x 9.5mm
スマートフォン用ページで見る