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電子線描画用データ処理ソフトウェア (Data analysis software for electron beam lithography)

設備ID
NU-268
設置機関
名古屋大学
設備画像
電子線描画用データ処理ソフトウェア
メーカー名
GenISys (GenISys)
型番
BEAMER
仕様・特徴
・レイアウトエディタ
・パターンデータ変換
・近接効果補正(PEC)
・グレースケール露光補正

RIEエッチング装置 (RIE etching)

設備ID
NU-267
設置機関
名古屋大学
設備画像
RIEエッチング装置
メーカー名
サムコ (Samco)
型番
RIE-10NR
仕様・特徴
・シリコン系エッチング
・対応基板サイズ:最大8インチ
・プロセスガス:CF4,Ar,O2

全自動X線回折装置 (Automated X-ray diffractometer)

設備ID
NU-266
設置機関
名古屋大学
設備画像
全自動X線回折装置
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
SmartLab 9kW
仕様・特徴
・線源:Cu Kα線 9kW
・光学系:集中法,平行ビーム法,インプレーン
・多層膜ミラー,Geモノクロメーター付き
・検出器:HyPix-3000二次元検出器
・測定モード:θ-2θスキャン,ロッキングカーブ,逆格子面マッピング,膜面内φスキャン,φ-2θχスキャンなど

物理特性測定装置 (Physical property measurement system)

設備ID
NU-265
設置機関
名古屋大学
設備画像
物理特性測定装置
メーカー名
日本カンタム・デザイン (Quantum Design Japan)
型番
DynaCool-12T
仕様・特徴
・温度範囲:1.85K〜400K
・最大印加磁場:12T
・測定オプション:直流抵抗,Van der Pauw-ホール輸送特性,試料振動型磁力計(VSM),試料回転機構

原子間力顕微鏡 (Atomic force microscope)

設備ID
NU-264
設置機関
名古屋大学
設備画像
原子間力顕微鏡
メーカー名
パーク・システムズ (Park Systems)
型番
NX20
仕様・特徴
・スキャン領域:XY方向100µm,Z方向15µm
・試料サイズ:最大200mmφ-20mmt
・測定モード AFM,MFM,EFM,LFM,FMM,C-AFM,ナノリソグラフィ

高分解能走査型電子顕微鏡 (High resolutiion scanning electron microscopy)

設備ID
NU-263
設置機関
名古屋大学
設備画像
高分解能走査型電子顕微鏡
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JSM-IT800
仕様・特徴
・加速電圧:0.01kV~30kV
・ステージバイアス電圧:0〜-5kV
・分解能:0.5nm(15kV),0.7nm(1kV)
・倍率:~2,000,000
・最大試料サイズ:170mmφ x 45mm
・EDS分析元素範囲:Be〜Cf

プラズマ誘起CVD装置 (Plasma Enhanced CVD)

設備ID
NU-262
設置機関
名古屋大学
設備画像
プラズマ誘起CVD装置
メーカー名
サムコ (Samco)
型番
PD-220N
仕様・特徴
・基板加熱:抵抗加熱式 (常用300℃)
・適正ウェハ寸法:最大8インチ径
・供給ガス:TEOS

段差計 (Surface profiler)

設備ID
NU-261
設置機関
名古屋大学
設備画像
段差計
メーカー名
小坂研究所 (Kosaka Laboratory)
型番
ET200A
仕様・特徴
・最大サンプルサイズ:φ160×厚さ52mm
・再現性 :1σ 0.3nm以内
・測定範囲 :Z:600µm,X:100mm
・分解能 :Z:0.1nm,X:0.1µm
・測定力:10µN~500µN

マスクレス露光装置 (Maskless lithography)

設備ID
NU-260
設置機関
名古屋大学
設備画像
マスクレス露光装置
メーカー名
ネオアーク (NEOARK)
型番
PALET DDB-701-DL4
仕様・特徴
・露光領域:100mm x 100mm
・最大ワークサイズ:Φ150mm x 10mm
・光源:365nm LED
・最小画素:3µm(対物レンズx10),15µm(対物レンズx2)

全自動元素分析装置 (CHNS/O Elemental Analyzer)

設備ID
NU-001
設置機関
名古屋大学
設備画像
全自動元素分析装置
メーカー名
Perkin Elmer社 (PerkinElmer)
型番
2400Ⅱ CHNS/O
仕様・特徴
・サンプル量分析範囲 : ~500 mg(固体、液体)*目的元素含有量に依存
・C(0.001~3.6 mg)、H(0.001~1.0 mg)N(0.001~6.0 mg)、S(0.001~2.0 mg)
・測定方式: 静的燃焼、フロンタルクロマトグラフィー、TCD検出
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