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川崎ブランチECRスパッタリング装置 (Electron-Cyclotron Resonance (ECR) Ion Beam Sputter Deposition System, EIS-230W)
- 設備ID
- UT-702
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- エリオニクス (ELIONIX)
- 型番
- EIS-230W
- 仕様・特徴
- ターゲット材をアルゴンプラズマによってスパッタリングし、基板に製膜するスパッタリング装置です。
109と比較して高周波の高密度プラズマを用いているところが違いです。
ターゲット材は日々変動するので都度相談ください。φ100以下の基板用
- 設備状況
- 稼働中
8インチ汎用スパッタ装置 (General purpose Sputtering machine, ULVAC SIH-450)
- 設備ID
- UT-703
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (ULVAC)
- 型番
- SIH-450
- 仕様・特徴
- 4インチウエーハ8枚、8インチウエーハ2枚導入可能。
6インチターゲット2枚、4インチターゲット1枚が可能。RFとDCスパッタリングが可能。
Al,SiO2,TiN,Taターゲットがあります。その他のターゲット導入も相談に乗ります（在庫がない場合注文から導入まで数ヶ月かかることもありますので相談はお早めに。）
- 設備状況
- 稼働中
高密度汎用スパッタリング装置 (Sputter )
- 設備ID
- UT-704
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 芝浦メカトロニクス (SHIBAURA MECHATRONICS)
- 型番
- CFS-4ES
- 仕様・特徴
- ターゲット超豊富です。サンプルサイズ: 8inch
ターゲットサイズ: 3inch ターゲット種類 : Ag, Al,Al2O3，Al-Nd, Au，AuGeNi, AuZnNi, Cr, Cu, GaN，ITO, IZO, Ni，Pt, SiO2, Si3N4，Ta, TbFeCo, Ti，TiO2，Pd ※, ZAO, Zn, ZnO
- 設備状況
- 稼働中
金メッキ装置 (Gold electroplating apparatus)
- 設備ID
- UT-706
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 山本鍍金試験器 (Yamamoto-MS)
- 型番
- 仕様・特徴
- 欠片～4”までの金電解メッキ
- 設備状況
- 稼働中
銅メッキ装置 (Copper electroplating apparatus)
- 設備ID
- UT-707
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 山本鍍金試験器 (Yamamoto-MS)
- 型番
- 仕様・特徴
- 欠片～4”までの金電解メッキ
- 設備状況
- 稼働中
超臨界銅成膜装置 (Supercritical Flude (SCF) Deposition)
- 設備ID
- UT-708
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 自作 (DIY)
- 型番
- 仕様・特徴
- 自作2㎝角まで。東京大学霜垣・百瀬研究室との協力による。
- 設備状況
- 稼働中
パリレンコーター (Parylene Coater)
- 設備ID
- UT-709
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 米国SCS社 (Specialty Coating Systems)
- 型番
- PDS2010
- 仕様・特徴
- 8インチまでの成膜が可能。
- 設備状況
- 稼働中
ニッケルめっき装置 (Nikkel Electroplating)
- 設備ID
- UT-710
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 山本鍍金試験器 (Yamamoto-MS)
- 型番
- 仕様・特徴
- 欠片～4”までのニッケル電解メッキ
- 設備状況
- 稼働中
LL式高密度汎用スパッタリング装置(2019) (LL-type High-density General Purpose Sputtering System)
- 設備ID
- UT-711
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 芝浦メカトロニクス (SHIBAURA MECHATRONICS)
- 型番
- CFS-4EP-LL !-Miller (2019)
- 仕様・特徴
- 真空引きが速く、通常10分程度でスパッタリング開始が可能。また、膜質の安定も期待できる。ターゲットはCFS-4ESと共通。 デフォルトはPt/Au/Cr/Tiを装着。それ以外のターゲットは支援員の技術補助で交換を行う。UT-716と互換。
- 設備状況
- 稼働中
8元電子線蒸着装置 (Electron Beam Evaporator)
- 設備ID
- UT-712
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- エイコー (EIKO)
- 型番
- EB-380
- 仕様・特徴
- 蒸着材料を一度に8種類装填できる多様な実験を支援する電子ビーム蒸着。
- 設備状況
- 稼働中