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TEM用ハイスループットイオン研磨システム (High-throughput ion polishing system for TEM)
- 設備ID
- UT-157
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- gatan (gatan)
- 型番
- PIPSⅡ
- 仕様・特徴
- 【特長】ハイスループットイオン研磨システムの試料ホルダー
より試料を取り外すことなく既設装置である
イオンスライサーに搭載可能であること。
【仕様】
本体
ミリングアングル -10°～+10° 調整可能
イオンエネルギー 100 eV ～8 keV
イオン電流密度 1イオン銃あたり 10 mA/cm2
試料回転 1～6 rpm まで可変
X,Y可動範囲 ±0.5 mm
冷却ステージ
デュアーの保持時間 約6～7時間
ヒーター1 ステージの温度調整用 (-120°C～+25°C)
ヒーター2 冷却したステージを室温戻し用
温度領域 -120°C～室温
試料冷却 -120°Cまで可能
- 設備状況
- 稼働中
大気非暴露対応冷却クロスセクションポリッシャ (Cooling cross section polisher for non-exposure to atmosphere)
- 設備ID
- UT-158
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
- 型番
- IB-19520CCP
- 仕様・特徴
- イオン加速電圧 2～8kV
ミリングスピード 500μm/h以上 (加速電圧8kV)
試料スイング機能±30°自動スイング
自動加工開始モード 〇
自動冷却加工開始モード /
自動室温復帰モード 〇
試料ステージ冷却到達温度 －120°C以下
冷却温度設定範囲 －120～0°C
試料冷却－100°C到達時間 60分以内
試料冷却保持時間 8時間以上
- 設備状況
- 稼働中
無機微小結晶構造解析装置 (X-ray Single Crystal Diffractometer)
- 設備ID
- UT-201
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- リガク㈱ (Rigaku Co.)
- 型番
- VariMax Dual
- 仕様・特徴
- □ 主な特長
・ これまで放射光でないと回折強度測定が困難であった数十μｍ角以下の低分子およびタンパ質結晶や一片が10μｍ以下の結晶などの微小結晶の構造解析が可能
・ 高輝度X線源と湾曲型人工多層膜ミラーの組み合わせにより、結晶位置に高輝度X線を導くことが可能
・ Mo/Cu両方の線源を使用可能であり無機・有機化合物の構造解析を線源に依存することなく測定可能
□ 主な仕様
・ X線源：1.2kW発生装置 / 実効輝度31kW/mm2/ Mo・Cuターゲット
・ X線光学素子（VariMax Dual）：湾曲型人工多層膜ミラー Mo・Cu両波長に対応した光学素子
・ 検出器：高感度・広ダイナミックレンジ2次元検出器により迅速な測定が可能
・シャッターを開放のまま、ゴニオメーター連続駆動をしてのシームレス測定が可能
・結晶を-180℃までの冷却が可能
- 設備状況
- 稼働中
高輝度In-plane型X線回折装置 (XRD)
- 設備ID
- UT-202
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- ㈱リガク (Rigaku Co.)
- 型番
- SmartLab(9kW)
- 仕様・特徴
- □ 主な特長
・ 高輝度Ｘ線源 及び In-Planeアームを搭載した試料水平配置高精度ゴニオメータを使用したＸ線回折装置。
・ 粉末試料測定に適した集中法光学系，薄膜試料の測定に適している多層膜ミラーを用いた平行ビーム光学系によるＸ線反射率測定，逆格子マップ測定，ロッキングカーブ測定などを簡単なユニット交換で組み替えて利用することが可能。
・ インプレーンアームの搭載により、極薄膜の評価や完全極点測定が可能。
□ 主な仕様
・ X線源：9kW回転対陰極X線発生装置A/Cuターゲット
・ 光学系：集中法・多層膜平行ビーム法・薄膜高分解平行ビーム法・インプレーン光学系
・ 検出器：HyPix-3000
- 設備状況
- 稼働中
粉末X線回折装置 (XRD)
- 設備ID
- UT-203
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- ㈱リガク (Rigaku Co.)
- 型番
- SmartLab (3kW)
- 仕様・特徴
- □ 主な特長
・ 粉末試料測定に適した集中法光学系，薄膜試料の測定に適している多層膜ミラーを用いた平行ビーム光学系。
・ In-Planeアームを搭載した試料水平配置高精度ゴニオメータを使用したＸ線回折装置。
・ 900℃までの高温測定用アタッチメントも用意している。
□ 主な仕様
・ X線源：3 kW封入型Ｘ線管/Cuターゲット
・ 光学系：集中法・多層膜平行ビーム法・インプレーン光学系
・ 検出器：シンチレーション検出器：1次元半導体検出器
・SmartLab用AntonPaarDHS900アタッチメント
- 設備状況
- 稼働中
粉末X線回折装置 (XRD)
- 設備ID
- UT-204
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- ㈱リガク (Rigaku Co.)
- 型番
- SmartLab (Kα1)
- 仕様・特徴
- □ 主な特長
対称ヨハンソン型結晶を用いた光学系による高強度、高角度分解能測定が可能。粉末Ｘ線回折等に威力を発揮。
□ 主な仕様
・ X線源：3 kW封入型Ｘ線管/Cuターゲット
・ 光学系：集中法・集光法
・ 検出器：シンチレーション検出器：1次元半導体検出器
・対称ヨハンソン型結晶を用いた光学系が可能
・キャピラリー回転測定可能
- 設備状況
- 稼働中
電子スピン共鳴装置 (Electron spin resonator)
- 設備ID
- UT-302
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子株式会社 (JEOL)
- 型番
- JES-FA300
- 仕様・特徴
- □ 主な仕様
・ 測定帯域
Xバンド約9GHz/Qバンド約35GHz
・最低計測可能温度 10K以下
□主な用途
・電界誘起キャリア密度・ダイナミクスの評価
・磁気共鳴やg値の磁場依存性の評価
- 設備状況
- 稼働中
分光エリプソメータ (M-2000DI-T)
- 設備ID
- UT-303
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- ジェー・エー・ウーラム・ジャパン (J.A.Woollam)
- 型番
- M-2000U
- 仕様・特徴
- □ 主な仕様
・測定波長：193～1690nm
・チャンネル数：690同時計測
・回転補償子型
- 設備状況
- 稼働中
極限環境下電磁物性計測装置 (Physical Property Measurement System(PPMS))
- 設備ID
- UT-304
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本カンタム・デザイン (Quantum Design Japan)
- 型番
- PPMS-14LHattt
- 仕様・特徴
- □ 主な仕様
・14 T超伝導マグネット
・温度制御 1.9K～400K
・試料空間 25.4mm
□主な用途
・電気輸送特性評価
・磁気特性評価
・熱輸送特性評価など
- 設備状況
- 稼働中
環境制御マニュアルプローバステーション (Environmental control manual prober station)
- 設備ID
- UT-305
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- （東陽テクニカ等） (Toyo Corporation)
- 型番
- ①半導体特性評価システム4200-SCS ②強誘電体特性評価システムFCE1EEA-200型 ③誘電体インピーダンス測定システム1260 ④極低温プローバー装置CPX-VF
- 仕様・特徴
- □ 主な仕様
・低温プローバ(CRX-4K):6K～350K
・高温プローバ(HCP-401/400)：室温～400度
・半導体パラメータ測定(4200-SCS型)
・誘電体測定(FCE1EEA-200型)
・インピーダンス測定(ソーラートロン1260)
□主な用途
・ 強誘電体分極評価測定
・インピーダンス周波数測定
・キャパシタ周波数測定など
- 設備状況
- 稼働中