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走査電子顕微鏡(SEM) (Field emission scanning electron microscope)

メーカー名
日立 (Hitachi)
型番
S-4700
設備画像
走査電子顕微鏡(SEM)
設置機関
広島大学
仕様・特徴
冷陰極電界放出型電子銃、最高分解能1.5nm、

EBSD解析装置 (EBSD analyzer)

メーカー名
日本電子 (JEOL Ltd.)
型番
JSM-7100F
設備画像
EBSD解析装置
設置機関
広島大学
仕様・特徴
EBSD測定により試料結晶面方位、結晶粒マッピング等の結晶構造解析を行う。

二次イオン質量分析装置 (SIMS)

メーカー名
アルバックファイ (ULVAC-PHI, Inc.)
型番
SIMS6650
設備画像
二次イオン質量分析装置
設置機関
広島大学
仕様・特徴
Cs,Oガン装備四重極型質量分析機、
一次イオン最小加速エネルギー1keV

蛍光X線分析装置(XRF) (XRF)

メーカー名
リガク ()
型番
ZSX-400
設備画像
蛍光X線分析装置(XRF)
設置機関
広島大学
仕様・特徴
波長分散型XRF 金属などの組成分析

X線光電子分光装置(XPS) (X-ray photoelectron spectroscopy)

メーカー名
クレイトスアナリティカル ()
型番
ESCA-3400
設備画像
X線光電子分光装置(XPS)
設置機関
広島大学
仕様・特徴
エミッション電流:20 mA、accel HT:10 kV、測定範囲:1150~-10 eV
X線源:Mg Kα, 電子結合エネルギー走査範囲:1150 ~ -10 eV

薄膜構造評価X線回析装置(XRD) (X-ray diffraction spectrometer)

メーカー名
リガク ()
型番
ATX-E
設備画像
薄膜構造評価X線回析装置(XRD)
設置機関
広島大学
仕様・特徴
角度分解能 0.0002度(2θ)

分光エリプソメーター (Spectroscopic ellipsometer)

メーカー名
J.A. Woollam Japan (J.A. Woollam Japan)
型番
M2000-D
設備画像
分光エリプソメーター
設置機関
広島大学
仕様・特徴
測定可能最小膜厚10nm,分光波長範囲193~1000nm、

干渉式膜厚計 (Spectroscopic reflectometer)

メーカー名
ナノメトリクスジャパン (Nanometrics Inc)
型番
AFT 5000
設備画像
干渉式膜厚計
設置機関
広島大学
仕様・特徴
可視光及び紫外光光源、多層膜対応解析ソフト搭載。

原子間力顕微鏡 (AFM)

メーカー名
セイコーインスツルメンツ (Seiko Instruments Inc.)
型番
SPI3800
設備画像
原子間力顕微鏡
設置機関
広島大学
仕様・特徴
分解能:z:0.01nm, X、Y:0.1nm,
視野:最小5nm角、最大 20μm角、

表面段差計 (Profilometer)

メーカー名
BRUKER (BRUKER)
型番
Dektak XT-E
設備画像
表面段差計
設置機関
広島大学
仕様・特徴
垂直範囲:10nm~1mm、垂直解像度:最高0.1nm
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