共用設備検索結果
分光エリプソメーター [UNECS-2000A] (Spectroscopic Ellipsometer [UNECS-2000A])
- 設備ID
- NM-663
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (ULVAC)
- 型番
- UNECS-2000A
- 仕様・特徴
- 1. 光源:ハロゲンランプ
2. 波長範囲:530~750 nm
3. スポット径:1mm
4. 入射角:70°固定
5. 試料サイズ:最大φ200mm
低ダメージ精密エッチング装置 [Spica] (ICP-RIE [Spica])
- 設備ID
- NM-662
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 住友精密工業 (Sumitomo Precision Products)
- 型番
- Spica
- 仕様・特徴
- プラズマ励起方式:誘導結合型
ICP出力:最大1kW
バイアス出力:最大300W
フッ素系ガスユニット:CHF3, CF4, C4F8, SF6, Ar, O2, N2
塩素系ガスユニット:Cl2, SiCl4, SF6, Ar, O2, N2
試料ステージ温度:10℃~30℃
最大試料サイズ:6インチΦ
電子ビーム描画装置 [JBX-8100FS] (EB Lithography [JBX-8100FS])
- 設備ID
- NM-661
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JBX-8100FS
- 仕様・特徴
- 1. 最高加速電圧200kV
2. クロック周波数125MHz
3. 12カセット自動搬送
4. 最大8インチウェハ対応
赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3] (RTA [RTP-6 #3])
- 設備ID
- NM-634
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- アドバンス理工株式会社 (ADVANCE RIKO)
- 型番
- RTP-6
- 仕様・特徴
- ・用途:多目的熱処理プロセス
・加熱方式:赤外線ランプによる上部片面加熱
・プロセス温度:1200℃以下
・昇温速度:10℃/秒以下
・プロセスガス:N2,O2,Ar+3%H2
・最大試料サイズ:φ6inch
・その他:タッチパネル操作系
SiO2プラズマCVD装置 [PD-220NL] (SiO2 PECVD [PD-220NL])
- 設備ID
- NM-633
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- サムコ (samco)
- 型番
- PD-220NL
- 仕様・特徴
- ・プラズマ方式:平行平板型
・電源出力:30-300W
・原料:TEOS (SiO2)
・成膜温度:400度以下
・最大試料サイズ:φ8inch
NMR (NMR)
- 設備ID
- NM-001
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- ECS-400
- 仕様・特徴
- ・共鳴周波数:400MHz
・プローブ:多核種対応(1H, 13C, 15N~31P, 19F, 39K, 109Ag)
・温調:あり
・溶液サンプル専用
LC-MS(Q-Exactive Plus) (LC-MS(Q-Exactive Plus))
- 設備ID
- NM-002
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- サーモフィッシャーサイエンティフィック (Thermo Fisher Scientific)
- 型番
- Q-Exactive Plus
- 仕様・特徴
- ・イオン化方式:ESI
・質量検出方式:Orbitrap
・測定質量範囲:50~6,000 m/z
・オートサンプラー:あり
・タンパク同定ソフト:MASCOT
ラマン顕微鏡 (Raman microscope)
- 設備ID
- NM-003
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- レニショー (Renishaw)
- 型番
- inVia Reflex
- 仕様・特徴
- ・ラインレーザー照射による高速ラマンイメージング。
・繋ぎ目のない連続した広い波数範囲のスペクトル測定。
・共焦点機構による高い空間分解能。
・レーザー波長:532nm及び785nm
・波数分解能:0.3cm-1
・空間分解能:水平0.25µm、垂直1µm
・対物レンズ:5倍、20倍、50倍、63倍(水浸)、100倍
・温度制御:-196~600℃
共焦点レーザー走査型蛍光顕微鏡 (Confocal laser scanning fluorescence microscope)
- 設備ID
- NM-004
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- ライカマイクロシステムズ (Leica Microsystems)
- 型番
- SP5
- 仕様・特徴
- ・対物レンズ:10倍、20倍、40倍、63倍
・高速モード撮影時:秒/250コマ撮影
・高解像モード撮影時:8000×8000撮影が可能
・励起光源:405nm、458nm、476nm、488nm、514nm, 543nm、633nm
液中原子間力顕微鏡 (Atomic force microscope (AFM) in liquid)
- 設備ID
- NM-005
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- ブルカー (Bruker)
- 型番
- NanoWizard 4 XP
- 仕様・特徴
- 【AFM測定】
・液中観察:可
・走査範囲:水平100µm、垂直15µm
・動作モード:コンタクトモード、タッピングモード、フォースカーブマッピングモード、粘弾性測定、MFM観察
【直上顕微鏡】
・観察倍率:10倍
【倒立顕微鏡】
・観察法:明視野、位相差、蛍光
・対物レンズ:10倍、40倍
【その他】
・温度制御:室温+60℃まで