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LC-MS(Orbitrap Exploris 480) (LC-MS(Orbitrap Exploris 480))

設備ID
NM-020
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
LC-MS(Orbitrap Exploris 480)
メーカー名
サーモフィッシャーサイエンティフィック (Thermo Fisher Scientific)
型番
Orbitrap Exploris 480
仕様・特徴
・イオン化方式:ESI
・質量検出方式:Orbitrap
・測定質量範囲:40~6,000 m/z
・質量分解能:480,000 at 200 m/z
・オートサンプラー:あり
・タンパク同定ソフト:ProteomeDiscoverer

電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]  (EB Evaporator [ADS-E810])

設備ID
NM-665
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
電子銃型蒸着装置 [ADS-E810]
メーカー名
アールデック (R-DEC)
型番
ADS-E810
仕様・特徴
・蒸着方式:電子銃型
・ターゲット:Al, Ti, Ni, AuGe, Pt, Au, Pd, Ag, Cr, 他
・到達真空度:10-5 Pa
・TS間距離:500 mm
・最大試料サイズ:φ8inch
・その他:ロードロック式、水冷式試料ステージ

スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #4] (Sputter [CFS-4EP-LL #4])

設備ID
NM-664
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #4]
メーカー名
芝浦メカトロニクス株式会社 (SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION)
型番
CFS-4EP-LL
仕様・特徴
・電源:DC×2、RF×1
・電源出力:500W(最大)
・カソード:φ3インチ×4式
・基板サイズ:最大8inchφ
・プロセスガス:Ar、O2、N2
・基板加熱:設定300℃
・逆スパッタ可

FIB/SEM精密微細加工装置(Helios 650) (FIB/SEM microfabrication instrument)

設備ID
NM-517
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
FIB/SEM精密微細加工装置(Helios 650)
メーカー名
日本エフイー・アイ株式会社 (FEI Company Japan Ltd.)
型番
Helios 650
仕様・特徴
1. SIM像分解能5nm(@30kV)、最大電流65nA
2. SEM像分解能1.5nm(@1kV)、最大電流26nA
3. E-beam: 350V~30 kV、I-Beam: : 500V~30 kV
4. 試料ステージ: XY150 mm、Z10 mm、T: -9°~+57°、R: 360°
5. Ptデポ
6. サンプルリフトアウトシステム
【特徴】
1.集束イオンビーム(FIB)加工が可能 2.走査型電子顕微鏡(SEM)観察が可能 3.カラム内で加工薄片をリフトアウト(マイクロサンプリング)可能

卓上型X線回折計_Cu_SMF (pXRD_Cu_SMF)

設備ID
NM-215
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
卓上型X線回折計_Cu_SMF
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
MiniFlex600_Cu
仕様・特徴
・X線発生装置:最大出力0.6 kW
・X線波長:Cu Kα
・X線検出器:1次元型半導体式

卓上型粉末回折計_Cr_SCR (pXRD_Cr_SCR)

設備ID
NM-214
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
卓上型粉末回折計_Cr_SCR
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
MiniFlex600_Cr
仕様・特徴
・X線発生装置:最大出力0.6 kW
・X線波長:Cr Kα
・X線検出器:1次元型半導体式

卓上型粉末回折計_Cu_ASC_NC2 (pXRD_Cu_ASC_NC2)

設備ID
NM-213
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
卓上型粉末回折計_Cu_ASC_NC2
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
MiniFlex600_Cu
仕様・特徴
・X線発生装置:最大出力0.6 kW
・X線波長:Cu Kα
・試料部:試料水平型
・X線検出器:1次元型半導体式
・6連自動試料交換機

卓上型粉末回折計_Cu_ASC_NC1 (pXRD_Cu_ASC_NC1)

設備ID
NM-212
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
卓上型粉末回折計_Cu_ASC_NC1
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
MiniFlex600_Cu
仕様・特徴
・X線発生装置:最大出力0.6 kW
・X線波長:Cu Kα
・試料部:試料水平型
・X線検出器:1次元型半導体式
・6連自動試料交換機

高速・高感度型粉末X線回折装置_Cu_ASC_NS3 (pXRD_Cu_ASC_NS3)

設備ID
NM-211
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
高速・高感度型粉末X線回折装置_Cu_ASC_NS3
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
SmartLab3
仕様・特徴
・X線発生装置:最大出力3.0 kW
・X線波長:Cu Kα
・X線検出器:1次元型半導体式
・試料部:試料水平型
・6もしくは48連自動試料交換機

温度可変型粉末X線回折装置_Cu1_NTS (pXRD_LT/HT_Cu1_R_NTS)

設備ID
NM-210
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
温度可変型粉末X線回折装置_Cu1_NTS
メーカー名
リガク (Rigaku)
型番
SmartLab 9 kW with cryostat/furnace
仕様・特徴
・高輝度X線発生装置:最大出力9 kW
・X線波長:Cu Kα1
・X線検出器:高性能1次元型半導体検出器(D/teX ULTRA 250)
・試料部:試料水平型
・低温装置:2.6 K~室温(真空)
・高温装置:室温~1500℃(空気、He、N2、O2、Ar、真空)
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