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電子線描画用近接効果補正ソフト (Procxymity effect correction for electron beam lithography)
- 設備ID
- UT-508
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- GenISys (GenISys GmbH)
- 型番
- Beamer
- 仕様・特徴
- 電子線描画時に生じる近接効果を補正して設計通りのレズストパターンを電子線で描画するためのパターン補正システム。グレースケール露光用のデータ生成が可能。
デバイスシミュレーター (Device Simulator)
- 設備ID
- BA-001
- 設置機関
- 筑波大学
- 設備画像
- メーカー名
- SILVACO (SILVACO)
- 型番
- ATHENA/ATLAS
- 仕様・特徴
- 2次元プロセスシミュレーター
2次元シリコン・デバイスシミュレーター
2次元先端材料・デバイスシミュレーター
3次元シリコン/先端材料・デバイスシミュレーター
回路&レイアウト設計ツール (Ics Design & Layout Editor)
- 設備ID
- KT-120
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- タナーEDA (Tanner EDA)
- 型番
- Tanner Tools Pro
- 仕様・特徴
- ・回路設計：回路図エディタ、SPICEシミュレータほか
・レイアウト設計：全角度マスクエディタ、SDL、対応形式（GDSII、CIF、OASIS、DXF、Gerberほか）
・物理検証：DRC、LVS
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