共用設備検索結果
ウエハスピン現像装置 (Wafer spin developer )
- 設備ID
- GA-015
- 設置機関
- 香川大学
- 設備画像
- メーカー名
- 滝沢産業 (TAKIZAWA SANGYO)
- 型番
- AD-1200（無機用），AD-1200（有機用）
- 仕様・特徴
- 基板サイズ：φ4"以下
基板ホルダー：真空吸着式
基板回転数：0～3000rpm 可変式
処理時間：999sec/stop（1sec単位）
使用薬液：無機系アルカリ液対応と有機溶剤対応
処理方法：スプレースイングアーム式
水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1] (H2O Plasma Cleaner [AQ-500 #1])
- 設備ID
- NM-605
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]](data/facility_item/NM-605.jpg)
- メーカー名
- サムコ (Samco)
- 型番
- AQ-500
- 仕様・特徴
- ・用途：洗浄・還元・灰化・接合・親水化
・高周波出力：50-250W
・反応ガス：H2O,O2
・最大試料サイズ：φ8 inch
・その他：自動運転プログラム
UVオゾンクリーナー [UV-1] (UV Ozone Cleaner [UV-1])
- 設備ID
- NM-606
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![UVオゾンクリーナー [UV-1]](data/facility_item/NM-606.jpg)
- メーカー名
- サムコ (samco)
- 型番
- UV-1
- 仕様・特徴
- ・用途：基板クリーニング，表面改質
・光源：紫外線ランプ （184.9nmおよび253.7nm）
・オゾンジェネレータ：無声放電方式高濃度オゾナイザー
・ステージ温度：室温～300度
・最大試料サイズ：φ8 inch
リフトオフ装置 [KLO-150CBU] (Auto Lift-Off [KLO-150CBU])
- 設備ID
- NM-613
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![リフトオフ装置 [KLO-150CBU]](data/facility_item/NM-613.jpg)
- メーカー名
- カナメックス (KANAMEX)
- 型番
- KLO-150CBU
- 仕様・特徴
- ・用途：リフトオフ、レジスト剥離
・レジスト膨潤：80℃ NMP溶液
・レジスト剥離：高圧ジェットNMP溶液
・リンス：IPA, 純水
・乾燥：スピン乾燥、N2ブロー
・最大試料サイズ：φ6inch
エッチングチャンバー (Draft chamber)
- 設備ID
- TU-001
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- アズワン (As one)
- 型番
- PSH1200
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
有機ドラフトチャンバー (Draft Chamber for organic)
- 設備ID
- TU-002
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ()
- 型番
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
リン酸槽 (Draft chamber for SiN etching)
- 設備ID
- TU-003
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- - (-)
- 型番
- -
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
スピン乾燥機 (Spin dryer)
- 設備ID
- TU-004
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東邦化成 (Toho Kasei)
- 型番
- ZAA-4
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：20mm角～6インチ
4スピン乾燥機 (4 Spin dryer)
- 設備ID
- TU-005
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- SEMITOOL (SEMITOOL)
- 型番
- PSC101
- 仕様・特徴
- カセット式で1度に25枚まで処理可能
6スピン乾燥機 (6 Spin dryer)
- 設備ID
- TU-006
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- SEMITOOL (SEMITOOL)
- 型番
- PSC101
- 仕様・特徴
- カセット式で1度に25枚まで処理可能