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"その他"で検索した結果 2件
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水素アニール装置 (Hydrogen annealing)
- 設備ID
- TU-108
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- オリジナル (Original)
- 型番
- -
- 仕様・特徴
- 東北大学大学院工学研究科 金森 義明 教授が開発した装置
赤外線ランプ加熱
温度：最高1100℃
超臨界洗浄・乾燥装置 (Supercritical Rinser & Dryer)
- 設備ID
- KT-117
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- (株)レクザム (Rexxam Co., Ltd.)
- 型番
- SCRD401
- 仕様・特徴
- 超臨界CO2により微細構造物を変形・破壊せずに洗浄・乾燥が可能。
・基板サイズ：MAXΦ4
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