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赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3] (RTA [RTP-6 #3])

設備ID
NM-634
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3]
メーカー名
アドバンス理工株式会社 (ADVANCE RIKO)
型番
RTP-6
仕様・特徴
・用途：多目的熱処理プロセス
・加熱方式：赤外線ランプによる上部片面加熱
・プロセス温度：1200℃以下
・昇温速度：10℃/秒以下
・プロセスガス：N2,O2,Ar+3%H2
・最大試料サイズ：φ6inch
・その他：タッチパネル操作系

赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #2] (RTA [RTP-6 #2])

設備ID
NM-619
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #2]
メーカー名
アドバンス理工株式会社 (ADVANCE RIKO)
型番
RTP-6
仕様・特徴
・用途：多目的熱処理プロセス
・加熱方式：赤外線ランプによる上部片面加熱
・プロセス温度：1200℃以下
・昇温速度：10℃/秒以下
・プロセスガス：Ar, N2, Ar+H2(3%)
・最大試料サイズ：φ6inch
・その他：タッチパネル操作系

シンター用オーブン (Sintering oven)

設備ID
TU-007
設置機関
東北大学
設備画像
シンター用オーブン
メーカー名
ヤマト科学 (Yamato)
型番
DR22
仕様・特徴
サンプルサイズ：小片～6インチ
温度：最高650℃

真空オーブン (Vacuum oven)

設備ID
TU-008
設置機関
東北大学
設備画像
真空オーブン
メーカー名
ヤマト科学 (Yamato)
型番
DP-31
仕様・特徴
サンプルサイズ：小片～6インチ
温度：最高200℃

ホットプレート (Hot plate)

設備ID
TU-054
設置機関
東北大学
設備画像
ホットプレート
メーカー名
Shamal (Shamal)
型番
HHP-230SQ
仕様・特徴
設定温度：40～400℃
温度分布精度：±1℃

クリーンオーブン (Clean oven)

設備ID
TU-055
設置機関
東北大学
設備画像
クリーンオーブン
メーカー名
ヤマト科学 (Yamato)
型番
DE62
仕様・特徴
サンプルサイズ：小片～8インチ

ポリイミドキュア炉 (Curing oven)

設備ID
TU-066
設置機関
東北大学
設備画像
ポリイミドキュア炉
メーカー名
ヤマト科学 (Yamato)
型番
DN43H
仕様・特徴
サンプルサイズ：小片～8インチ
温度：最高350℃

メタル拡散炉 (Metal diffusion furnace)

設備ID
TU-104
設置機関
東北大学
設備画像
メタル拡散炉
メーカー名
光洋リンドバーグ (Koyo)
型番
Model270
仕様・特徴
温度：最高1000℃

アニール炉 (Annealing)

設備ID
TU-106
設置機関
東北大学
設備画像
アニール炉
メーカー名
東京エレクトロン (TEL)
型番
XL-7
仕様・特徴
サンプルサイズ：小片～6インチ

ランプアニール装置 (Rapid thermal annealing)

設備ID
TU-107
設置機関
東北大学
設備画像
ランプアニール装置
メーカー名
AG Associates (AG Associates)
型番
AG4100
仕様・特徴
サンプルサイズ：小片～6インチ
カセットtoカセット
赤外線ランプ加熱
基板温度：最高1100℃
昇温速度：100℃／sec

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