共用設備検索結果
プログラム・ホットプレート (Program hot plate)
- 設備ID
- RO-122
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
![プログラム・ホットプレート](data/facility_item/1711528814_11.jpg)
- メーカー名
- アズワン株式会社 (AS ONE)
- 型番
- EC-1200NP
- 仕様・特徴
- ・16ステップ以内のプログラムを4パターン記憶
・制御可能温度範囲:室温+50 ~ 300℃
・プレート面積:412*312mm
赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3] (RTA [RTP-6 #3])
- 設備ID
- NM-634
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #3]](data/facility_item/1673319163_10.jpg)
- メーカー名
- アドバンス理工株式会社 (ADVANCE RIKO)
- 型番
- RTP-6
- 仕様・特徴
- ・用途:多目的熱処理プロセス
・加熱方式:赤外線ランプによる上部片面加熱
・プロセス温度:1200℃以下
・昇温速度:10℃/秒以下
・プロセスガス:N2,O2,Ar+3%H2
・最大試料サイズ:φ6inch
・その他:タッチパネル操作系
赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #2] (RTA [RTP-6 #2])
- 設備ID
- NM-619
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #2]](data/facility_item/NM-619.jpg)
- メーカー名
- アドバンス理工株式会社 (ADVANCE RIKO)
- 型番
- RTP-6
- 仕様・特徴
- ・用途:多目的熱処理プロセス
・加熱方式:赤外線ランプによる上部片面加熱
・プロセス温度:1200℃以下
・昇温速度:10℃/秒以下
・プロセスガス:Ar, N2, Ar+H2(3%)
・最大試料サイズ:φ6inch
・その他:タッチパネル操作系
シンター用オーブン (Sintering oven)
- 設備ID
- TU-007
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![シンター用オーブン](data/facility_item/1651462382_14.jpg)
- メーカー名
- ヤマト科学 (Yamato)
- 型番
- DR22
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~6インチ
温度:最高650℃
真空オーブン (Vacuum oven)
- 設備ID
- TU-008
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![真空オーブン](data/facility_item/1651462408_14.jpg)
- メーカー名
- ヤマト科学 (Yamato)
- 型番
- DP-31
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~6インチ
温度:最高200℃
ホットプレート (Hot plate)
- 設備ID
- TU-054
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![ホットプレート](data/facility_item/1651462646_14.jpg)
- メーカー名
- Shamal (Shamal)
- 型番
- HHP-230SQ
- 仕様・特徴
- 設定温度:40~400℃
温度分布精度:±1℃
ポリイミドキュア炉 (Curing oven)
- 設備ID
- TU-066
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![ポリイミドキュア炉](data/facility_item/1651464826_14.jpg)
- メーカー名
- ヤマト科学 (Yamato)
- 型番
- DN43H
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ:小片~8インチ
温度:最高350℃
メタル拡散炉 (Metal diffusion furnace)
- 設備ID
- TU-104
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
![メタル拡散炉](data/facility_item/1651465500_14.jpg)
- メーカー名
- 光洋リンドバーグ (Koyo)
- 型番
- Model270
- 仕様・特徴
- 温度:最高1000℃