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中電流イオン注入装置 (Middle-current ion implanter)

設備ID
TU-105
設置機関
東北大学
設備画像
中電流イオン注入装置
メーカー名
日新イオン機器 (Nissin)
型番
NH-20SR
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~4インチ
カセットtoカセット
加速電圧:~160kV
最大電流:0.6mA

イオン注入装置 (Ion implantation)

設備ID
NU-201
設置機関
名古屋大学
設備画像
イオン注入装置
メーカー名
日新電機 (Nissin Electric)
型番
NH-20SR-WMH
仕様・特徴
・加速電圧:5-200kV
・注入電流1 µA~100 µA

電界電離ガスイオン源搭載集束イオンビーム装置 (GFIS-FIB)

設備ID
JI-016
設置機関
北陸先端科学技術大学院大学(JAIST)
設備画像
電界電離ガスイオン源搭載集束イオンビーム装置
メーカー名
日立ハイテクサイエンス (Hitachi High-Tech Science)
型番
MR-GFIS
仕様・特徴
N2イオンビームによる低汚染のFIB加工
最少加工幅:約10nm

高温イオン注入装置 (Ion implanter)

設備ID
RO-212
設置機関
広島大学
設備画像
高温イオン注入装置
メーカー名
アルバック (ULVAC, Inc.)
型番
IMX-3500 (手動高温仕様)
仕様・特徴
500℃、 ~200kV,
Al,B,As,P,Si,F,Ar,N,He 等注入可能
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