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"拡散"で検索した結果 5件
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メタル拡散炉 (Metal diffusion furnace)
- 設備ID
- TU-104
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 光洋リンドバーグ (Koyo)
- 型番
- Model270
- 仕様・特徴
- 温度：最高1000℃
赤外線ランプ加熱炉（RTA） (RTA Furnace)
- 設備ID
- AT-089
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- アドバンス理工 (ADVANCE RIKO)
- 型番
- RTP-6S
- 仕様・特徴
- ・型式:RTP-6S
・試料サイズ:小片～4インチφ
・到達真空度:-4乗Pa台
・加熱方式: 試料上面より放物面反射赤外線輻射加熱方式
・加熱制御方式:プログラム起電力比較クローズドループ・コントロール方式(PID3項制御)
・加熱範囲:150 mmφ
・温度範囲:RT～1000℃
・最大加熱速度:20℃/sec(SiCサセプタ使用時は10℃/sec)
・均熱精度:ΔT=10℃(@700℃保定時 N2ガスフロー中)
・温度センサ:熱電対(シースR熱電対)
・雰囲気 ガス:N2, Ar, O2
ウェル拡散炉 (Well diffusion furnaces)
- 設備ID
- RO-224
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東京エレクトロン (Tokyo Electron)
- 型番
- 370MI- MINI
- 仕様・特徴
- 対応wafer：２inch、cut wafer
最高使用温度1150℃
燐拡散炉 (Phosphorus diffusion furnaces)
- 設備ID
- RO-226
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- 神港精機 (SHINKO SEIKI Co., LTD)
- 型番
- 仕様・特徴
- 対応wafer：２inch、cut wafer
最高使用温度900℃
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