共用設備検索

共用設備検索結果

フリーワード検索

酸化炉 (Oxidation)

設備ID
TU-101
設置機関
東北大学
設備画像
酸化炉
メーカー名
東京エレクトロン (TEL)
型番
XL-7
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~6インチ
ドライ酸化、ウェット酸化(パイロジェニック)

酸化炉(8) (Oxidation)

設備ID
TU-102
設置機関
東北大学
設備画像
酸化炉(8)
メーカー名
光洋サーモシステム (Koyo)
型番
MT-10×8-A
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ
ドライ酸化、ウェット酸化(バブリング)
酸化温度:最大1050℃

メタル拡散炉 (Metal diffusion furnace)

設備ID
TU-104
設置機関
東北大学
設備画像
メタル拡散炉
メーカー名
光洋リンドバーグ (Koyo)
型番
Model270
仕様・特徴
温度:最高1000℃

電気炉 (Electric furnance)

設備ID
NU-218
設置機関
名古屋大学
設備画像
電気炉
メーカー名
光洋リンドバーグ (KOYO Lindberg)
型番
MODEL272-2
仕様・特徴
・温度範囲:400-1100℃
・ドライ酸化用

酸化・拡散炉 (Oxidization and diffusion furnance)

設備ID
NU-219
設置機関
名古屋大学
設備画像
酸化・拡散炉
メーカー名
光洋リンドバーグ (KOYO Lindberg)
型番
MODEL270-M100
仕様・特徴
・温度範囲:600-1150℃
・ウェット酸化用

熱酸化炉 (Thermal Oxidation Furnace )

設備ID
KT-207
設置機関
京都大学
設備画像
熱酸化炉
メーカー名
光洋サーモシステム(株) (Koyo Thermo Systems Co., Ltd.)
型番
MT-8X28-A
仕様・特徴
ドライまたはウェット状態でウエハの高温加熱が可能(常用最高温度1,050℃)
・基板サイズ:MAXΦ6×25枚/バッチ
・常用最高温度:1,050℃
・雰囲気:N2、O2(乾燥または湿潤状態)

ウェハー酸化炉 (Oxidation Furnace)

設備ID
AT-041
設置機関
産業技術総合研究所(AIST)
設備画像
ウェハー酸化炉
メーカー名
マテルス (MATELS)
型番
MAT-200KS
仕様・特徴
・型式:MAT-200KS
・試料サイズ:最大4インチφ×25枚(長さ150 mm)
・ヒーター:カンタルRAC200,220L×3ゾーン
・常用温度:1100 ℃(到達時間:2時間)
・温度分布:1100 ℃±2 ℃(範囲長さ200 mm)
・炉心管:石英、136 mmΦ×長さ1090 mm
・試料室:ドライ、ウェット雰囲気
・使用ガス:O2, N2, H2O

化合物半導体光素子用酸化炉 (Oxidation System for Vertical Cavity Surface Emitting Laser)

設備ID
IT-022
設置機関
東京工業大学
設備画像
化合物半導体光素子用酸化炉
メーカー名
エピクエスト (EpiQuest)
型番
Hivox3001
仕様・特徴
化合物半導体用AlAs酸化用 最大加熱温度500度
最大ウェハサイズ3インチ
赤外線カメラによるin-situモニタ付き

シリコン専用の各種熱処理(酸化、拡散)装置一式 (Thermal treatment furnaces (oxidation, diffusion))

設備ID
TT-009
設置機関
豊田工業大学
設備画像
シリコン専用の各種熱処理(酸化、拡散)装置一式
メーカー名
縦型:ディー・エス・アイ テクノロジー 横型:光洋サーモシステム (縦型:DSITechnology Co.LTD 横型:Koyo Thermo Systems Co., Ltd.)
型番
縦型:MD-100P 横型:4001PSI
仕様・特徴
横型および縦型酸化・拡散炉一式
・シリコンウェハの酸化および不純物拡散(リンおよびボロン)
・φ3インチまでのシリコン基板

酸化炉 (Oxidation furnaces)

設備ID
RO-221
設置機関
広島大学
設備画像
酸化炉
メーカー名
東京エレクトロン (Tokyo Electron)
型番
仕様・特徴
対応wafer:2inch、cut wafer
最高使用温度1150℃
ドライ酸化、パイロジェニック酸化
スマートフォン用ページで見る