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"酸化"で検索した結果 10件
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酸化炉 (Oxidation)
- 設備ID
- TU-101
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東京エレクトロン (TEL)
- 型番
- XL-7
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
ドライ酸化、ウェット酸化（パイロジェニック）
酸化炉(8) (Oxidation)
- 設備ID
- TU-102
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 光洋サーモシステム (Koyo)
- 型番
- MT-10×8-A
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
ドライ酸化、ウェット酸化（バブリング）
酸化温度：最大1050℃
メタル拡散炉 (Metal diffusion furnace)
- 設備ID
- TU-104
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 光洋リンドバーグ (Koyo)
- 型番
- Model270
- 仕様・特徴
- 温度：最高1000℃
電気炉 (Electric furnance)
- 設備ID
- NU-218
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 光洋リンドバーグ (KOYO Lindberg)
- 型番
- MODEL272-2
- 仕様・特徴
- ・温度範囲：400-1100℃
・ドライ酸化用
酸化・拡散炉 (Oxidization and diffusion furnance)
- 設備ID
- NU-219
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- 光洋リンドバーグ (KOYO Lindberg)
- 型番
- MODEL270-M100
- 仕様・特徴
- ・温度範囲：600-1150℃
・ウェット酸化用
熱酸化炉 (Thermal Oxidation Furnace )
- 設備ID
- KT-207
- 設置機関
- 京都大学
- 設備画像
- メーカー名
- 光洋サーモシステム(株) (Koyo Thermo Systems Co., Ltd.)
- 型番
- MT-8X28-A
- 仕様・特徴
- ドライまたはウェット状態でウエハの高温加熱が可能（常用最高温度1,050℃）
・基板サイズ：MAXΦ6×25枚/バッチ
・常用最高温度：1,050℃
・雰囲気：N2、O2（乾燥または湿潤状態）
ウェハー酸化炉 (Oxidation Furnace)
- 設備ID
- AT-041
- 設置機関
- 産業技術総合研究所（AIST)
- 設備画像
- メーカー名
- マテルス (MATELS)
- 型番
- MAT-200KS
- 仕様・特徴
- ・型式:MAT-200KS
・試料サイズ:最大4インチφ×25枚(長さ150 mm)
・ヒーター:カンタルRAC200,220L×3ゾーン
・常用温度:1100 ℃（到達時間:2時間）
・温度分布:1100 ℃±2 ℃(範囲長さ200 mm)
・炉心管:石英、136 mmΦ×長さ1090 mm
・試料室:ドライ、ウェット雰囲気
・使用ガス:O2, N2, H2O
化合物半導体光素子用酸化炉 (Oxidation System for Vertical Cavity Surface Emitting Laser)
- 設備ID
- IT-022
- 設置機関
- 東京工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- エピクエスト (EpiQuest)
- 型番
- Hivox3001
- 仕様・特徴
- 化合物半導体用AlAs酸化用 最大加熱温度５００度
最大ウェハサイズ３インチ
赤外線カメラによるin-situモニタ付き
シリコン専用の各種熱処理（酸化、拡散）装置一式 (Thermal treatment furnaces (oxidation, diffusion))
- 設備ID
- TT-009
- 設置機関
- 豊田工業大学
- 設備画像
- メーカー名
- 縦型：ディー・エス・アイ テクノロジー 横型：光洋サーモシステム (縦型：DSITechnology Co.LTD 横型：Koyo Thermo Systems Co., Ltd.)
- 型番
- 縦型：MD-100P 横型：4001PSI
- 仕様・特徴
- 横型および縦型酸化・拡散炉一式
・シリコンウェハの酸化および不純物拡散（リンおよびボロン）
・φ3インチまでのシリコン基板
酸化炉 (Oxidation furnaces)
- 設備ID
- RO-221
- 設置機関
- 広島大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東京エレクトロン (Tokyo Electron)
- 型番
- 仕様・特徴
- 最高使用温度1150℃
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