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マスクレス露光装置 (Maskless lithography)
- 設備ID
- NU-260
- 設置機関
- 名古屋大学
- 設備画像
- メーカー名
- ネオアーク (NEOARK)
- 型番
- PALET DDB-701-DL4
- 仕様・特徴
- ・露光領域：100mm x 100mm
・最大ワークサイズ：Φ150mm x 10mm
・光源：365nm LED
・最小画素：3µm（対物レンズx10），15µm（対物レンズx2）
エリオニクス 50kV EB描画装置 (Elionix 50kV EB lithography)
- 設備ID
- TU-065
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- エリオニクス (Elionix)
- 型番
- ELS-7500X
- 仕様・特徴
- 最大加速電圧：50kV
電子ビーム描画装置 [ELS-F125] ( EB Lithography [ELS-F125])
- 設備ID
- NM-601
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![電子ビーム描画装置 [ELS-F125]](data/facility_item/NM-601.jpg)
- メーカー名
- エリオニクス (Elionix)
- 型番
- ELS-F125
- 仕様・特徴
- ・用途：高精細ナノパターニング
・電子銃：ZrO/W 熱電界放射型
・最大加速電圧：125kV (25kV ステップで可変)
・フィールドつなぎ精度：25nm 以下(500μm フィールド）
・重ね合わせ精度：30nm 以下(500μm フィールド）
・最大試料サイズ：6 inch
・走査クロック周波数：100MHz
レーザー描画装置 [DWL66+] (Laser Lithography [DWL66+])
- 設備ID
- NM-603
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![レーザー描画装置 [DWL66+]](data/facility_item/NM-603.jpg)
- メーカー名
- ハイデルベルグ・インストルメンツ (HEIDELBERG INSTRUMENT)
- 型番
- DWL66+
- 仕様・特徴
- ・光源：375nm 半導体レーザー (70mW)
・描画モード：ラスタースキャン描画、ベクターモード描画
・解像モード：0.3μm, 0.6μm, 0.8μm, 1.0μm
・最大試料サイズ：8インチ角
・その他：グレースケール描画、重ね合わせ描画
マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P] (Maskless Lithography [DL-1000/NC2P])
- 設備ID
- NM-604
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![マスクレス露光装置 [DL-1000/NC2P]](data/facility_item/1651463479_14.jpg)
- メーカー名
- ナノシステムソリューションズ (Nanosystem Solutions)
- 型番
- DL-1000 / NC2P
- 仕様・特徴
- ・用途：高速マスクレスパターニング
・光源：405nm 半導体レーザー（h線）
・照度：10W/cm2
・位置決め精度：500nm 以下
・重ね合わせ精度：500nm 以下
・最大試料サイズ：8インチ角
・その他：グレースケール露光，スキャニング露光，自動／手動アライメント機能
水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1] (H2O Plasma Cleaner [AQ-500 #1])
- 設備ID
- NM-605
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]](data/facility_item/NM-605.jpg)
- メーカー名
- サムコ (Samco)
- 型番
- AQ-500
- 仕様・特徴
- ・用途：洗浄・還元・灰化・接合・親水化
・高周波出力：50-250W
・反応ガス：H2O,O2
・最大試料サイズ：φ8 inch
・その他：自動運転プログラム
UVオゾンクリーナー [UV-1] (UV Ozone Cleaner [UV-1])
- 設備ID
- NM-606
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![UVオゾンクリーナー [UV-1]](data/facility_item/NM-606.jpg)
- メーカー名
- サムコ (samco)
- 型番
- UV-1
- 仕様・特徴
- ・用途：基板クリーニング，表面改質
・光源：紫外線ランプ （184.9nmおよび253.7nm）
・オゾンジェネレータ：無声放電方式高濃度オゾナイザー
・ステージ温度：室温～300度
・最大試料サイズ：φ8 inch
有機ドラフトチャンバー (Draft Chamber for organic)
- 設備ID
- TU-002
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ()
- 型番
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
真空オーブン (Vacuum oven)
- 設備ID
- TU-008
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ヤマト科学 (Yamato)
- 型番
- DP-31
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
温度：最高200℃
ミカサ スピンコータ (Mikasa Spin coater)
- 設備ID
- TU-051
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ミカサ (Mikasa)
- 型番
- 1H-DXII
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ