共用設備検索結果
微細組織3次元マルチスケール解析装置 (Orthogonal FIB-SEM)
- 設備ID
- NM-302
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- SMF-1000
- 仕様・特徴
- 最高1nmピッチで制御可能で，加工と観察を繰り返すこと(シリアルセクショニング)で3D像再構築が可能．更にEBSDを併用した3D-EBSDやTEM試料作製も対応可能．
・SEM：ZEISS Gemini
・EDS：EDAX
・EBSD：EDAX TSL Hikari
・Ar-ion gun
・Depo. gas：Carbon
TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置 (FIB-SEM combined apparatus for automatic preparation of TEM specimens)
- 設備ID
- NM-403
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- NX5000
- 仕様・特徴
- ・FIB: Ga液体金属イオン源、加速電圧0.5－30kV、分解能4nm (30kV)、最大ビーム電流100nA
・SEM: 冷陰極電界放射型電子銃、加速電圧0.1－30kV、分解能0.7nm (15kV)、最大ビーム電流10nA
・低加速Arイオンビーム：加速電圧0.5－2kV、最大ビーム電流20nA
無損傷電子顕微鏡試料薄片化装置 (Damage-less TEM specimen milling apparatus)
- 設備ID
- NM-404
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- フィッシオーネ (Fischione)
- 型番
- Model 1040 Nanomill
- 仕様・特徴
- ・イオン：アルゴン
・イオンエネルギー：50～2000eV 可変
・イオン電流：1mA/cm2
・イオンビームサイズ：2μm
セラミックス試料作製装置群 (Ceramics sample preparation facilities)
- 設備ID
- NM-407
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- ガタン日立ハイテク真空デバイスマルトーTECHNOORG-LINDA (GatanHitachi High-TechVacuum DeviceMarutoTECHNOORG-LINDA)
- 型番
- 695PIPS II（精密イオン研磨装置）656 DimpleGrinder（ディンプルグラインダ）TM4000Plus II（卓上SEM）VES-30T（マルチコーター）ML-180 DoctorLap（卓上研磨機）MS2 MICROSAW（小型精密切断器）
- 仕様・特徴
- ・精密イオン研磨装置：イオンビームエネルギー: 0.1～8 keV、試料冷却が可能、観察用デジタルズームカメラ付属
・ディンプルグラインダ：研磨ホイール径 15 mm、研磨荷重 0～40 g、自動停止機構付属
・卓上SEM：加速電圧：5－20kV、二次電子検出器および反射電子検出器
・マルチコーター：蒸着、イオンスパッタ、親水化処理
・卓上研磨機：研磨回転数 50～500 rpm
・小型精密切断器：50mmダイヤモンド回転刃
デュアルビーム加工観察装置 (Dual Beam system)
- 設備ID
- NM-509
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Technologies)
- 型番
- NB5000
- 仕様・特徴
- ・FIB：加速電圧1~40 kV、最大電流50nA、倍率x600~
・SEM：加速電圧0.5~30kV、分解能1nm@15kV, 倍率x250~
・付属：マイクロサンプリング、STEM, EDS
FIB加工装置群 (Focused Ion Beam systems)
- 設備ID
- NM-510
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JIB-4000
- 仕様・特徴
- ・FIB：加速電圧1~30 kV、最大電流60nA
・分解能：5nm (@30kV)
FIB加工装置群 (Focused Ion Beam systems)
- 設備ID
- NM-511
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-9320FIB
- 仕様・特徴
- ・FIB：加速電圧5~30 kV、最大電流30nA
・分解能：6nm (@30kV)
FIB加工装置群 (Focused Ion Beam systems)
- 設備ID
- NM-512
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-9310FIB
- 仕様・特徴
- ・FIB：加速電圧5~30 kV、最大電流10nA
・分解能：8nm (@30kV)
ピックアップシステム (Pick-up System)
- 設備ID
- NM-513
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- ()
- 型番
- 仕様・特徴
- ・大気中（FIB外）でガラスプローブを使ってTEMグリッド上へ固定
ウルトラミクロトーム (Ultramicrotome)
- 設備ID
- NM-514
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- ライカマイクロシステムズ (Leica Microsystems)
- 型番
- Leica EM UC6
- 仕様・特徴
- ・ガラスナイフまたはダイヤモンドナイフを使用して薄切切片を製作
・液体窒素冷却機能付属