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デュアルビーム走査電子顕微鏡 (Dual Beam FIB-SEM)

設備ID
KT-408
設置機関
京都大学
設備画像
デュアルビーム走査電子顕微鏡
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JIB-4700F
仕様・特徴
1.SEM装置(0.1~30kV)
2.FIB装置(1~30kV)
3.EDS検出器
4.EBSD検出器
5.クライオステージ
6.WとCのガス吹付装置

集束イオンビーム加工観察装置(FIB) (MultiBeam System (FIB))

設備ID
UT-156
設置機関
東京大学
設備画像
集束イオンビーム加工観察装置(FIB)
メーカー名
日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
型番
JIB-PS500i
仕様・特徴
□ 特長
・ 高分解能 FE-SEM を搭載し、ピンポイントでの断面作製が可能
・ 高分解能 SEM で FIB 加工状況をリアルタイムにモニタ可能
・ インレンズサーマル電子銃を搭載し、最大 500nA の大電流による安定した高速分析が可能
・ STEM観察が可能(BF,HAADF)
□ 主な仕様
FIB(収束イオンビーム)
・ イオン源:Ga液体金属イオン源
・ 加速電圧:0.5~30kV
・ 倍率:×50~×300,000
・ イオンビーム加工形状:矩形、ライン、スポット
SEM(電子ビーム)
・ 加速電圧:0.01~30kV
・ 倍率:×20~×1,000,000
・ 像分解能:0.7nm(加速電圧15kV)、1.0nm(加速電圧1kV)

走査型X線透過顕微鏡 (Scanning Transmission X-ray microscopy apparatus)

設備ID
AE-009
設置機関
日本原子力研究開発機構(JAEA)
設備画像
走査型X線透過顕微鏡
メーカー名
カスタム (Home-made)
型番
なし
仕様・特徴
N, OのK吸収端, および遷移金属L2,3吸収端、希土類M4,5吸収端など、400~1900eVに吸収端のある元素の実空間2次元マッピングが可能で、場所ごとの吸収スペクトルを得ることができる。
・空間分解能:~50 nm
・試料温度:室温のみ
・検出方法:透過法のみ

液中原子間力顕微鏡 (Atomic force microscope (AFM) in liquid)

設備ID
NM-005
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
液中原子間力顕微鏡
メーカー名
ブルカー (Bruker)
型番
NanoWizard 4 XP
仕様・特徴
【AFM測定】
・液中観察:可
・走査範囲:水平100µm、垂直15µm
・動作モード:コンタクトモード、タッピングモード、フォースカーブマッピングモード、粘弾性測定、MFM観察
【直上顕微鏡】
・観察倍率:10倍
【倒立顕微鏡】
・観察法:明視野、位相差、蛍光
・対物レンズ:10倍、40倍
【その他】
・温度制御:室温+60℃まで

卓上走査型電子顕微鏡装置群 (Tabletop scanning electron microscope (SEM))

設備ID
NM-006
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
卓上走査型電子顕微鏡装置群
メーカー名
日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
型番
Miniscope TM4000PlusII Miniscope TM3000
仕様・特徴
【TM4000PlusII】
・倍率:10倍~10万倍
・加速電圧 : 5 kV、10 kV、15 kV、20 kV
・画像信号 : 反射電子, 二次電子
・真空モード:導電体(反射電子のみ)、標準、帯電軽減
・EDX:あり
【TM3000】
・倍率:15倍~3万倍
・加速電圧 : 5 kV、15 kV
・画像信号 : 反射電子のみ
・観察モード:通常、帯電軽減
・EDX:あり

微細組織3次元マルチスケール解析装置 (Orthogonal FIB-SEM)

設備ID
NM-302
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
微細組織3次元マルチスケール解析装置
メーカー名
日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
型番
SMF-1000
仕様・特徴
最高1nmピッチで制御可能で,加工と観察を繰り返すこと(シリアルセクショニング)で3D像再構築が可能.更にEBSDを併用した3D-EBSDやTEM試料作製も対応可能.
・SEM:ZEISS Gemini
・EDS:EDAX
・EBSD:EDAX TSL Hikari
・Ar-ion gun
・Depo. gas:Carbon

TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置 (FIB-SEM combined apparatus for automatic preparation of TEM specimens)

設備ID
NM-403
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置
メーカー名
日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
型番
NX5000
仕様・特徴
・FIB: Ga液体金属イオン源、加速電圧0.5-30kV、分解能4nm (30kV)、最大ビーム電流100nA
・SEM: 冷陰極電界放射型電子銃、加速電圧0.1-30kV、分解能0.7nm (15kV)、最大ビーム電流10nA
・低加速Arイオンビーム:加速電圧0.5-2kV、最大ビーム電流20nA

走査型電子顕微鏡 (Field emission scanning electron microscope)

設備ID
NM-508
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
走査型電子顕微鏡
メーカー名
日本電子 (JEOL)
型番
JSM-7000F
仕様・特徴
・ショットキーFEG
・加速電圧: 30 kV
・分解能:1.2nm (30kV), 3.0nm (1kV)

デュアルビーム加工観察装置 (Dual Beam system)

設備ID
NM-509
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
デュアルビーム加工観察装置
メーカー名
日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Technologies)
型番
NB5000
仕様・特徴
・FIB:加速電圧1~40 kV、最大電流50nA、倍率x600~
・SEM:加速電圧0.5~30kV、分解能1nm@15kV, 倍率x250~
・付属:マイクロサンプリング、STEM, EDS

FE-SEM [S-4800] (FE-SEM [S-4800])

設備ID
NM-621
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
FE-SEM [S-4800]
メーカー名
日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
型番
S-4800
仕様・特徴
・用途:ナノ加工・構造・材料の観察・計測
・電子銃:ZrO/W 電界放射型
・加速電圧:0.1-30kV
・2次電子像分解能:1.0nm (ノーマル:15kV),1.4nm (リターディング:1.0kV)
・試料ステージ:5軸モーター駆動
・最大試料サイズ:φ6inch
・その他:各種試料ホルダー装備
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