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走査型X線透過顕微鏡 (Scanning Transmission X-ray microscopy apparatus)
- 設備ID
- AE-009
- 設置機関
- 日本原子力研究開発機構（JAEA）
- 設備画像
- メーカー名
- カスタム (Home-made)
- 型番
- なし
- 仕様・特徴
- N, OのK吸収端, および遷移金属L2,3吸収端、希土類M4,5吸収端など、400~1900eVに吸収端のある元素の実空間2次元マッピングが可能で、場所ごとの吸収スペクトルを得ることができる。
・空間分解能：~50 nm
・試料温度：室温のみ
・検出方法：透過法のみ
液中原子間力顕微鏡 (Atomic force microscope (AFM) in liquid)
- 設備ID
- NM-005
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- ブルカー (Bruker)
- 型番
- NanoWizard 4 XP
- 仕様・特徴
- 【AFM測定】
・液中観察：可
・走査範囲：水平100µm、垂直15µm
・動作モード：コンタクトモード、タッピングモード、フォースカーブマッピングモード、粘弾性測定、MFM観察
【直上顕微鏡】
・観察倍率：10倍
【倒立顕微鏡】
・観察法：明視野、位相差、蛍光
・対物レンズ：10倍、40倍
【その他】
・温度制御：室温＋60℃まで
卓上走査型電子顕微鏡装置群 (Tabletop scanning electron microscope (SEM))
- 設備ID
- NM-006
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- Miniscope TM4000PlusII Miniscope TM3000
- 仕様・特徴
- 【TM4000PlusII】
・倍率：10倍~10万倍
・加速電圧 : 5 kV、10 kV、15 kV、20 kV
・画像信号 : 反射電子, 二次電子
・真空モード：導電体（反射電子のみ）、標準、帯電軽減
・EDX：あり
【TM3000】
・倍率：15倍～3万倍
・加速電圧 : 5 kV、15 kV
・画像信号 : 反射電子のみ
・観察モード：通常、帯電軽減
・EDX：あり
微細組織3次元マルチスケール解析装置 (Orthogonal FIB-SEM)
- 設備ID
- NM-302
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- SMF-1000
- 仕様・特徴
- 最高1nmピッチで制御可能で，加工と観察を繰り返すこと(シリアルセクショニング)で3D像再構築が可能．更にEBSDを併用した3D-EBSDやTEM試料作製も対応可能．
・SEM：ZEISS Gemini
・EDS：EDAX
・EBSD：EDAX TSL Hikari
・Ar-ion gun
・Depo. gas：Carbon
TEM試料自動作製FIB-SEM複合装置 (FIB-SEM combined apparatus for automatic preparation of TEM specimens)
- 設備ID
- NM-403
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- NX5000
- 仕様・特徴
- ・FIB: Ga液体金属イオン源、加速電圧0.5－30kV、分解能4nm (30kV)、最大ビーム電流100nA
・SEM: 冷陰極電界放射型電子銃、加速電圧0.1－30kV、分解能0.7nm (15kV)、最大ビーム電流10nA
・低加速Arイオンビーム：加速電圧0.5－2kV、最大ビーム電流20nA
走査型電子顕微鏡 (Field emission scanning electron microscope)
- 設備ID
- NM-508
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JSM-7000F
- 仕様・特徴
- ・ショットキーFEG
・加速電圧: 30 kV
・分解能：1.2nm (30kV), 3.0nm (1kV)
デュアルビーム加工観察装置 (Dual Beam system)
- 設備ID
- NM-509
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Technologies)
- 型番
- NB5000
- 仕様・特徴
- ・FIB：加速電圧1~40 kV、最大電流50nA、倍率x600~
・SEM：加速電圧0.5~30kV、分解能1nm@15kV, 倍率x250~
・付属：マイクロサンプリング、STEM, EDS
FE-SEM [S-4800] (FE-SEM [S-4800])
- 設備ID
- NM-621
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![FE-SEM [S-4800]](data/facility_item/NM-621.jpg)
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- S-4800
- 仕様・特徴
- ・用途：ナノ加工・構造・材料の観察・計測
・電子銃：ZrO/W 電界放射型
・加速電圧：0.1-30kV
・2次電子像分解能：1.0nm （ノーマル：15kV），1.4nm （リターディング：1.0kV）
・試料ステージ：5軸モーター駆動
・最大試料サイズ：φ6inch
・その他：各種試料ホルダー装備
走査型プローブ顕微鏡 [Jupiter XR] (SPM [Jupiter XR])
- 設備ID
- NM-622
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
![走査型プローブ顕微鏡 [Jupiter XR]](data/facility_item/NM-622.jpg)
- メーカー名
- オックスフォード・インストゥルメンツ (Oxford Instruments)
- 型番
- Jupiter XR
- 仕様・特徴
- ・用途：ナノ構造の計測
・評価・測定モード：形状測定、メカニカル測定、電気測定、磁気測定、等
・走査範囲：90um
・ステージ可動範囲：200mm角
・最大試料サイズ：φ8inch
熱電子SEM (SEM)
- 設備ID
- TU-314
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
- 型番
- S3700N
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～8インチ
ロードロックは4インチまで
EDX付、低真空モード付、光学画像ナビゲーション付