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全反射蛍光X線分析装置TXRF-3760 (Total internal reflection fluorescence X-ray analyzer)

設備ID
UT-862
設置機関
東京大学
設備画像
全反射蛍光X線分析装置TXRF-3760
メーカー名
(株)リガク (Rigaku Corporation)
型番
TXRF 3760
仕様・特徴
ウェーハ表面上の汚染を非破壊・非接触で高感度に分析。
液体窒素フリー検出器を備えた3ビームTXRFシステム。
ナトリウムからウランまでの元素検出が可能。
解析に時間と経験を要するため、当面技術代行(代行料が上乗せになる)にての公開。

顕微レーザーラマン分光測定装置 (Laser Raman Microscope system)

設備ID
HK-631
設置機関
北海道大学
設備画像
顕微レーザーラマン分光測定装置
メーカー名
HORIBA Jobin Yvon (HORIBA Jobin Yvon)
型番
LabRAM HR-Evolution type pa nano
仕様・特徴
励起波長: 633nm
測定波長範囲:100-4000cm-1
分光器焦点距離:800mm
光学配置:ツェルニターナ配置
グレーティング:600、1800 gr/mm
検出器: CCD検出器 (Open Electrodeタイプ)
スペクトル分解能(FWHM):0.35 cm-1 )@633nm, 1800gr/mm)

ICP発光分光分析装置 (Inductively coupled plasma optical emission spectrometer)

設備ID
NI-020
設置機関
名古屋工業大学
設備画像
ICP発光分光分析装置
メーカー名
島津サイエンス (Shimadzu Corporation)
型番
ICPE-9820
仕様・特徴
1.ICP発光分光分析装置本体(マルチチャンネル型、波長範囲167~800 nm)
2.フッ酸試料導入オプション
3.オートサンプラ(15ml容器60本自動測定)

表面化学実験ステーション (Surface chemistry experimental apparatus)

設備ID
AE-010
設置機関
日本原子力研究開発機構(JAEA)
設備画像
表面化学実験ステーション
メーカー名
オミクロン (Scienta Omicron, Inc.)
型番
Hipp-3
仕様・特徴
"表面界面の電子状態の精密分析や時分割観察が可能
・高輝度・高エネルギー分解能高輝度軟X線放射光(400~1700eV)
・複合表面分析(LEED、Arスパッター、SPM、蒸着(実績:Hf、Ge、Cs、Auなど)
・超高真空(2×10-8Pa)~ガス雰囲気(10-3Pa)
室温~1150℃加熱中の光電子分光観察
・材料プロセスの時分割観察、超音速分子線を使った反応ダイナミクス
・測定試料:半導体(Si、Ge、SiC、GaN etc)、金属(Cu、Ni、各種合金)、グラフェン等の新材料、ナノ粒子、機能物質など。単結晶、多結晶、アモルファス、薄膜等の固体試料
・導入ガス:酸素、水素、水、ギ酸、一酸化窒素、メタン、エタン、塩化メチル、NO2、COなど"

CCDマルチICP発光分光分析装置 (ICP-OES Analyzer SPECTRO ARCOS)

設備ID
KU-518
設置機関
九州大学
設備画像
 CCDマルチICP発光分光分析装置
メーカー名
SPECTRO (SPECTRO)
型番
ARCOS EOP 130
仕様・特徴
タイプ 多元素同時(マルチ):ポリクロメーター
多元素同時(マルチ):ポリクロメーター
マウント方式 トリプル・パッシェンルンゲ
波長範囲 130~770nm
UVシステム
(200nm以下の測定システム) UV-PLUS(連続ガスパージ不要)
クリーンカートリッジ交換:2年に1回
焦点距離 750mm
回折格子 3,600本/mm 2式 1,800本/mm 1式
次光 1次光(全波長範囲)
検出器 リニアCCDアレイ

硬X線光電子分光装置 (Hard X-ray photoelectron spectrometer)

設備ID
AE-008
設置機関
日本原子力研究開発機構(JAEA)
設備画像
硬X線光電子分光装置
メーカー名
シエンタオミクロン社 (Scienta Omicron, Inc.)
型番
光電子アナライザー: EW4000-10keV
仕様・特徴
硬X線を励起光として用いることで、バルク敏感な電子状態の観測ができる。
・励起光エネルギー:6, 8, 10keV選択可能
・KBミラーによる数十μm程度の空間分解能
・試料温度:RT-900K
・中和銃による絶縁物測定

ラマン顕微鏡 (Raman microscope)

設備ID
NM-003
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
ラマン顕微鏡
メーカー名
レニショー (Renishaw)
型番
inVia Reflex
仕様・特徴
・ラインレーザー照射による高速ラマンイメージング。
・繋ぎ目のない連続した広い波数範囲のスペクトル測定。
・共焦点機構による高い空間分解能。
・レーザー波長:532nm及び785nm
・波数分解能:0.3cm-1
・空間分解能:水平0.25µm、垂直1µm
・対物レンズ:5倍、20倍、50倍、63倍(水浸)、100倍
・温度制御:-196~600℃

プレートリーダー (Plate reader)

設備ID
NM-008
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
プレートリーダー
メーカー名
パーキンエルマー (PerkinElmer)
型番
EnSight
仕様・特徴
・モノクロメーターによる任意波長の測定が可能。
・多様な測定モード(吸光/蛍光/発光/時間分解蛍光)。
・温度調節機能やプレート撹拌機能を搭載。
・光源:UVキセノンフラッシュランプ
・検出器(吸光):フォトダイオード(230-1000nm)
・検出器(蛍光):光電子増倍管(230-850nm)
・波長選択:モノクロメーター
・プレートフォーマット:6ウェル、12ウェル、24ウェル、48ウェル、96ウェル、384ウェル

分光光度計 (Spectrophotometer)

設備ID
NM-009
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
分光光度計
メーカー名
日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
型番
U-2900
仕様・特徴
・光学系:ダブルビーム
・波長範囲:190~1100nm
・スペクトルバンド幅:1.5nm

分光蛍光光度計 (Fluorescence spectrophotometer)

設備ID
NM-010
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
分光蛍光光度計
メーカー名
日立ハイテク (Hitachi High-Tech)
型番
F-7000
仕様・特徴
・感度:水のラマン光S/N800以上(RMS)、S/N250以上(Peak to peak)
・光源:150W Xeランプ
・測定波長範囲:200~750nm
・波長走査速度:30~60,000nm/min
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