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3次元レーザ・リソグラフィシステム群 (3 dimentional laser lithography system)

メーカー名
Nanoscribe KISCO (Nanoscribe KISCO)
型番
Photonic Professional SCLEAD3CD2000
設備画像
3次元レーザ・リソグラフィシステム群
設置機関
名古屋大学
仕様・特徴
Nanoscribe Photonic Professional
・2次元加工精度:100 nm
・3次元加工精度:150 nm
・対応データ:DXF, STL
KISCO SCLEAD3CD2000
・設計温度:100 ℃
・設計圧力:20 MPa
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