共用設備検索結果
多目的ドライエッチング装置 (CCP-RIE)
- メーカー名
- サムコ (samco)
- 型番
- RIE-200NL
- 設備画像
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 仕様・特徴
- ・用途：多種材料のドライエッチング
・プラズマ励起方式：平行平板型
・電源出力：最大300W
・プロセスガス：CHF3，CF4，SF6，Ar，O2，N2
・試料ステージ温度：室温
・最大試料サイズ：φ8inch
化合物ドライエッチング装置 (ICP-RIE)
- メーカー名
- サムコ (samco)
- 型番
- RIE-101iPH
- 設備画像
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 仕様・特徴
- ・用途：化合物半導体のドライエッチング
・金属薄膜のドライエッチング
・プラズマ励起方式：誘導結合型
・電源出力：ICP出力：最大1kW／バイアス出力：最大300W
・プロセスガス：Cl2，BCl3，Ar，O2，N2
・試料ステージ温度：200度以下
・最大試料サイズ：φ4inch
シリコン深掘りエッチング装置 (Si Deep RIE)
- メーカー名
- 住友精密工業 (Sumitomo Precision Products)
- 型番
- MUC-21 ASE-SRE
- 設備画像
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 仕様・特徴
- ・用途：MEMS等，シリコン深掘エッチング
・プラズマ励起方式：誘導結合型
・電源出力：ICP出力：最大1kW／バイアス出力：最大100W
・プロセスガス：SF6，C4F8，Ar，O2
・試料ステージ温度：室温
・最大試料サイズ：φ6inch
酸化膜ドライエッチング装置 (Oxide Etcher)
- メーカー名
- 住友精密工業 (Sumitomo Precision Products)
- 型番
- MUC-21 RV-APS-SE
- 設備画像
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 仕様・特徴
- ・用途：SiC，SiN，SiO2等の高速エッチング
・プラズマ励起方式：誘導結合型
・電源出力：ICP出力：最大3kW／バイアス出力：最大1kW
・プロセスガス：CHF3，CF4，C4F8，SF6，Ar，O2，He
・試料ステージ温度：-10～+40度
・最大試料サイズ：φ6inch
・その他：SiO2エッチングレート：0.5um/min以上，終点検出機能装備
ICP原子層エッチング装置 (Atomic Layer Etching System)
- メーカー名
- オックスフォード・インストゥルメンツ (Oxford Instruments)
- 型番
- PlasmaPro 100 Cobra 300 ALE
- 設備画像
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 仕様・特徴
- ・用途：GaN、GaAs、化合物半導体のドライエッチング
・プラズマ励起方式：誘導結合型
・電源出力：ICP出力：最大3kW／バイアス出力：最大300W
・プロセスガス：Cl2，BCl3，SF6，Ar，N2，O2
・試料ステージ温度：-30～+80度
・最大試料サイズ：φ6インチ（オプションで8インチ可）
・その他：ICP エッチング加工, ALE プロセス, 終点検出機能装備
DeepRIE装置#1 (DeepRIE #1)
- メーカー名
- 住友精密工業 (Sumitomo Precision Products)
- 型番
- MUC-21 ASE-SRE
- 設備画像
- 設置機関
- 東北大学
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：4インチ(小片～4インチ)
基板固定方式：メカニカルチャック
プラズマ方式：ICP
ガス：SF6、C4F8、Ar、O2
メタルマスク（Al、Crなど）不可
DeepRIE装置#2 (DeepRIE #2)
- メーカー名
- 住友精密工業 (Sumitomo Precision Products)
- 型番
- MUC-21 ASE-SRE
- 設備画像
- 設置機関
- 東北大学
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：6インチ、または、4インチ(小片～6または4インチ)
基板固定方式：メカニカルチャック
プラズマ方式：ICP
ガス：SF6、C4F8、Ar、O2
メタルマスク（Al、Crなど）不可
DeepRIE装置#3 (DeepRIE #3)
- メーカー名
- STS (STS)
- 型番
- Multiplex-ICP SR
- 設備画像
- 設置機関
- 東北大学
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：6インチ、または、4インチ(小片～6または4インチ)
基板固定方式：メカニカルチャック
プラズマ方式：ICP
ガス：SF6、C4F8、CHF3、Ar、O2
メタルマスク（Al、Crなど）可