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共用設備検索結果

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CCP-RIE装置 [RIE-200NL] (CCP-RIE [RIE-200NL])

設備ID
NM-614
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
CCP-RIE装置 [RIE-200NL]
メーカー名
サムコ (samco)
型番
RIE-200NL
仕様・特徴
・用途:多種材料のドライエッチング
・プラズマ励起方式:平行平板型
・電源出力:最大300W
・プロセスガス:CHF3,CF4,SF6,Ar,O2,N2
・試料ステージ温度:室温
・最大試料サイズ:φ8inch

ICP-RIE装置 [RIE-101iPH] (ICP-RIE [RIE-101iPH])

設備ID
NM-615
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
ICP-RIE装置 [RIE-101iPH]
メーカー名
サムコ (samco)
型番
RIE-101iPH
仕様・特徴
・用途:化合物半導体のドライエッチング
・金属薄膜のドライエッチング
・プラズマ励起方式:誘導結合型
・電源出力:ICP出力:最大1kW/バイアス出力:最大300W
・プロセスガス:Cl2,BCl3,Ar,O2,N2
・試料ステージ温度:200度以下
・最大試料サイズ:φ4inch

シリコンDRIE装置 [ASE-SRE] (Si Deep RIE [ASE-SRE])

設備ID
NM-616
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
シリコンDRIE装置 [ASE-SRE]
メーカー名
住友精密工業 (Sumitomo Precision Products)
型番
MUC-21 ASE-SRE
仕様・特徴
・用途:MEMS等,シリコン深掘エッチング
・プラズマ励起方式:誘導結合型
・電源出力:ICP出力:最大1kW/バイアス出力:最大100W
・プロセスガス:SF6,C4F8,Ar,O2
・試料ステージ温度:室温
・最大試料サイズ:φ6inch

ICP-RIE装置 [RV-APS-SE] (ICP-RIE [RV-APS-SE])

設備ID
NM-617
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
ICP-RIE装置 [RV-APS-SE]
メーカー名
住友精密工業 (Sumitomo Precision Products)
型番
MUC-21 RV-APS-SE
仕様・特徴
・用途:SiC,SiN,SiO2等の高速エッチング
・プラズマ励起方式:誘導結合型
・電源出力:ICP出力:最大3kW/バイアス出力:最大1kW
・プロセスガス:CHF3,CF4,C4F8,SF6,Ar,O2,He
・試料ステージ温度:-10~+40度
・最大試料サイズ:φ6inch
・その他:SiO2エッチングレート:0.5μm/min以上,終点検出機能装備

原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE] (ALE [PlasmaPro 100 ALE])

設備ID
NM-618
設置機関
物質・材料研究機構 (NIMS)
設備画像
原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE]
メーカー名
オックスフォード・インストゥルメンツ (Oxford Instruments)
型番
PlasmaPro 100 Cobra 300 ALE
仕様・特徴
・用途:GaN、GaAs、化合物半導体のドライエッチング
・プラズマ励起方式:誘導結合型
・電源出力:ICP出力:最大3kW/バイアス出力:最大300W
・プロセスガス:Cl2,BCl3,SF6,Ar,N2,O2
・試料ステージ温度:-30~+80度
・最大試料サイズ:φ6インチ(オプションで8インチ可)
・その他:ICP エッチング加工, ALE プロセス, 終点検出機能装備

エッチングチャンバー (Draft chamber)

設備ID
TU-001
設置機関
東北大学
設備画像
エッチングチャンバー
メーカー名
アズワン (As one)
型番
PSH1200
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ

リン酸槽 (Draft chamber for SiN etching)

設備ID
TU-003
設置機関
東北大学
設備画像
リン酸槽
メーカー名
- (-)
型番
-
仕様・特徴
サンプルサイズ:小片~8インチ

DeepRIE装置#1 (DeepRIE #1)

設備ID
TU-201
設置機関
東北大学
設備画像
DeepRIE装置#1
メーカー名
住友精密工業 (Sumitomo Precision Products)
型番
MUC-21 ASE-SRE
仕様・特徴
サンプルサイズ:4インチ(小片~4インチ)
基板固定方式:メカニカルチャック
プラズマ方式:ICP
ガス:SF6、C4F8、Ar、O2
メタルマスク(Al、Crなど)不可

DeepRIE装置#2 (DeepRIE #2)

設備ID
TU-202
設置機関
東北大学
設備画像
DeepRIE装置#2
メーカー名
住友精密工業 (Sumitomo Precision Products)
型番
MUC-21 ASE-SRE
仕様・特徴
サンプルサイズ:6インチ、または、4インチ(小片~6または4インチ)
基板固定方式:メカニカルチャック
プラズマ方式:ICP
ガス:SF6、C4F8、Ar、O2
メタルマスク(Al、Crなど)不可

DeepRIE装置#3 (DeepRIE #3)

設備ID
TU-203
設置機関
東北大学
設備画像
DeepRIE装置#3
メーカー名
STS (STS)
型番
Multiplex-ICP SR
仕様・特徴
サンプルサイズ:6インチ、または、4インチ(小片~6または4インチ)
基板固定方式:メカニカルチャック
プラズマ方式:ICP
ガス:SF6、C4F8、CHF3、Ar、O2
メタルマスク(Al、Crなど)可
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