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共用設備検索結果
"回折・散乱"で検索した結果 58件
- 58件中 1～10件
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- 設備ID
NM-201 |
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- リガク（想定） (Rigaku Corporation（想定）)
- 型番
- 仕様・特徴
- 設備ID
NM-204 |
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- (株)リガク (Rigaku Corporation)
- 型番
- SmartLab 9 kW
- 仕様・特徴
- ・温度可変（1773 K ~ RT、873 K ~ 100 K、RT ~ 2.6 K ）
・雰囲気制御可能（Air、N2、O2、Ar、He、TMPレベル真空）
・引っ張り試験機（最大：5 N）
・α-β-γ軸付きゴニオメーター
- 設備ID
NM-301 |
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL)
- 型番
- JEM-ARM300F
- 仕様・特徴
- 金属・セラミックス試料の組成，化学状態，結晶方位等の局所分析およびマップ取得が可能．
・加速電圧：300kV, 200kV, 120kV, 80kV
・球面収差補正(イメージおよびプローブのダブルコレクタ)
・大口径EDS検出器(158mm2 x 2本)
・エネルギーフィルター(Gatan ContinuumER)
・プリセッション電子回折を用いた結晶方位測定システム(ASTAR)
- 設備ID
NM-401 |
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子 (JEOL )
- 型番
- JEM-ARM300F
- 仕様・特徴
- ・加速電圧 60, 80, 300kV
・TEM非線形情報限界 60pm
・TEM格子分解能 50pm
・STEM空間分解能 58pm
・CMOSカメラ 動画撮影機能搭載
・デュアルEDS検出器 合計立体角1.2Sr
・EELS エネルギー分解能0.7eV
- 設備ID
NM-402 |
- 設置機関
- 物質・材料研究機構 (NIMS)
- 設備画像
- メーカー名
- 日本エフイー・アイ (FEI)
- 型番
- FEI Titan Cubed
- 仕様・特徴
- ・加速電圧80kV－300kV
・分解能70pm (300kV)
・エネルギー分解能80meV (80kV)
・ダブルコレクター
・モノクロメータ
- 設備ID
TU-313 |
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- コムスキャンテクノ (Comscantecno)
- 型番
- ScanXmate D160TS110
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
小さいサンプルの方が拡大率が大きくなり分解能向上
- 設備ID
TU-323 |
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ブルカー・エイエックスエス (Bruker)
- 型番
- D8 DISCOVER
- 仕様・特徴
- サンプルサイズ：小片～6インチ
- 設備ID
TU-606 |
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- リガク (Rigaku)
- 型番
- VariMax with RAPID
- 仕様・特徴
- ・型式：回転対陰極方式
・最大定格出力：1.2 kW（40 kV, 30 mA）
・ターゲット：2色管球 Cu/Mo
・X線光学系：集光型人工多層膜 集光ミラー
・ゴニオメーター：χ軸；-5°～+55°、２θ軸測角範囲；-60°～+144°
・検出器：IP、検出面積；460 mm×256 mm、ダイナミックレンジ；1×106（photon/pixel at Cu）
- 設備ID
TU-607 |
- 設置機関
- 東北大学
- 設備画像
- メーカー名
- ブルカー (Bruker)
- 型番
- SMART APEX II Ultra
- 仕様・特徴
- ・型式：回転対陰極方式
・最大定格出力：2.5 kW（50 kV, 50 mA）
・ターゲット：Cu
・X線光学系：集光型人工多層膜 集光ミラー
・ゴニオメーター：χ軸；57.74°に固定、２θ軸測角範囲；-100°～+100°
・検出器：CCD、検出面積；61 mm×61 mm、感度；80 electron/X-ray photon (Cu Kα)
- 設備ID
UT-005 |
- 設置機関
- 東京大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
- 型番
-
JEM-ARM200F Thermal FE STEM
- 仕様・特徴
- □ 主な仕様
・ 分解能：STEM明視野格子像 0.136nm
STEM暗視野格子像 0.082nm
TEM格子像 0.10nm
TEM粒子像 0.19nm
・ 倍率： STEM像 200～150,000,000倍
TEM像 50～2,000,000倍
・ 収差補正装置：照射系球面収差補正装置 組み込み
・ 検出器：エネルギー分散形X線分析装置 (SDD)、電子線エネルギー損失分光器（EELS）、
軽元素対応像検出器、CCD検出器（2k×2k,4k×2k）
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