共用設備検索結果
EB加熱・抵抗加熱蒸着装置 (EB gun/resistant heating-type vacuume evaporation system)
- 設備ID
- HK-703
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- アルバック (Ujlvac)
- 型番
- EBX-8C
- 仕様・特徴
- 電子線、抵抗加熱方式
蒸着源：EB４元・抵抗加熱1元
蒸着材料：Si、Al、Fe、 Mo、Au
スパッタ装置 (Sputtering system)
- 設備ID
- HK-704
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- 菅製作所 (SUGA)
- 型番
- SSP3000Plus
- 仕様・特徴
- 成膜材料：1元、Au、Cr、FeNi、SiO2等
成膜温度：～300℃
最大試料料サイズ：φ 150mm
ダイシングソー (Dicing Saw)
- 設備ID
- HK-705
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- ディスコ (DISCO)
- 型番
- DAD322
- 仕様・特徴
- セミオートマチック
切削可能範囲(x,y)：150mm
最大ストローク(z)：32mm
エリプソメータ (Ellipsometry)
- 設備ID
- HK-706
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- 日本分光 (JASCO)
- 型番
- M-500S
- 仕様・特徴
- Xe光源, 測定波長：350～800nm, 試料水平置き
スピンコーター (Spin coater)
- 設備ID
- HK-707
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- ミカサ (MIKASA)
- 型番
- MS-B1000
- 仕様・特徴
- 試料サイズ：最大4インチ
回転数：0-4000rpm
卓上型ランプ加熱装置 (Infrared Gold Image Furnace / RTA System Mini Lamp Annealer)
- 設備ID
- HK-628
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- アドバンス理工 (ADVANCE RIKO,Inc.)
- 型番
- MILA-5000
- 仕様・特徴
- 温度範囲：RT ～ 1200℃
試料寸法：角 20mm × 厚 2mm
加熱雰囲気：大気中、真空中、不活性ガス中
到達真空度：6.5Pa（RP使用、室温無負荷）
ガラスインプリント装置 (High Precision Optical Glass Molding Press Machine)
- 設備ID
- HK-629
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- 東芝機械株式会社 (TOSHIBA MACHINE)
- 型番
- GMP-415V
- 仕様・特徴
- ナノ～マイクロメートルサイズの鋳型をガラス基板上に転写することで、ガラスの微細構造体を作製することが可能
微細形状測定機(段差計) (Microfigure Measuring Instrument)
- 設備ID
- HK-630
- 設置機関
- 北海道大学
- 設備画像
- メーカー名
- 株式会社 小坂研究所 (Kosaka Laboratory Ltd.)
- 型番
- ET200A
- 仕様・特徴
- 最大サンプルサイズΦ160×厚さ52mm
再現性1σ 0.3nm以内
測定範囲Z：600μm X：100mm
分解能Z：0.1nm X：0.1μm
測定力10μN～500μN