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電子線描画用データ処理ソフトウェア (Data analysis software for electron beam lithography)

設備ID
NU-268
設置機関
名古屋大学
設備画像
電子線描画用データ処理ソフトウェア
メーカー名
GenISys (GenISys)
型番
BEAMER
仕様・特徴
・レイアウトエディタ
・パターンデータ変換
・近接効果補正(PEC)
・グレースケール露光補正

MEMS設計ツール(IntelliSuite) (MEMS design tools)

設備ID
RO-132
設置機関
広島大学
設備画像
MEMS設計ツール(IntelliSuite)
メーカー名
インテリセンス (IntelliSense)
型番
IntelliSuite
仕様・特徴
工程データ、フローデータ、材料データ、2Dマスクデータ、3Dモデルデータの利活用に有効。

電子線描画用近接効果補正ソフト (Procxymity effect correction for electron beam lithography)

設備ID
UT-508
設置機関
東京大学
設備画像
電子線描画用近接効果補正ソフト
メーカー名
GenISys (GenISys GmbH)
型番
Beamer
仕様・特徴
電子線描画時に生じる近接効果を補正して設計通りのレズストパターンを電子線で描画するためのパターン補正システム。グレースケール露光用のデータ生成が可能。

分子構造解析システム (Molecular structure analysis system)

設備ID
KU-516
設置機関
九州大学
設備画像
分子構造解析システム
メーカー名
 ()
型番
自主開発
仕様・特徴
生体分子や高分子材料のシミュレーションおよび可視化のために必要なシステムを、並列コンピューティングおよびGPUコンピューティングにより稼働している。非経験的分子軌道法、密度汎関数理論計算プログラム、分子動力学といった様々な手法によるモデリング、計算、解析が可能である。

デバイスシミュレーター (Device Simulator)

設備ID
BA-001
設置機関
筑波大学
設備画像
デバイスシミュレーター
メーカー名
SILVACO (SILVACO)
型番
ATHENA/ATLAS
仕様・特徴
2次元プロセスシミュレーター
2次元シリコン・デバイスシミュレーター
2次元先端材料・デバイスシミュレーター
3次元シリコン/先端材料・デバイスシミュレーター

解析用PC(CAD及び近接効果補正用) (PC (PEC and CAD))

設備ID
AT-094
設置機関
産業技術総合研究所(AIST)
設備画像
解析用PC(CAD及び近接効果補正用)
メーカー名
ジェニシス (GenISys)
型番
BEAMER
仕様・特徴
・型式:BEAMER
・近接効果補正
・パターン分割処理
・輪郭分離処理
・PSFシミュレーション

データコンバートシステム (data converter)

設備ID
WS-028
設置機関
早稲田大学
設備画像
データコンバートシステム
メーカー名
有限会社君塚製作所 (KSS Internet)
型番
特注品
仕様・特徴
装置データコンバートシステム及びバッチ送信システム
データ送信用PC DL20 Gen10 2LFF SATA 専用カスタマイズモデル
データ保存用サーバDL160 Gen10 8SFF SATA 専用カスタマイズモデル
データ保存用 ストレージ QNAP T1683XURN8016
ネットワーク装置 HUB NetGeAR XS712T-200AJS

大規模量子化学計算 (Large-scale quantum chemistry calculation)

設備ID
MS-302
設置機関
自然科学研究機構  分子科学研究所
設備画像
大規模量子化学計算
メーカー名
 ()
型番
仕様・特徴
高精度ナノ構造電子状態計算

有機合成DX (Organic synthesis DX)

設備ID
MS-304
設置機関
自然科学研究機構  分子科学研究所
設備画像
有機合成DX
メーカー名
 ()
型番
仕様・特徴
自動および手動によるバッチ型反応実験、ならびに、AIやDFT計算によるデータ解析を行い、有機合成分野のデジタル化を支援する。

回路&レイアウト設計ツール (Ics Design & Layout Editor)

設備ID
KT-120
設置機関
京都大学
設備画像
回路&レイアウト設計ツール
メーカー名
タナーEDA (Tanner EDA)
型番
Tanner Tools Pro
仕様・特徴
・回路設計:回路図エディタ、SPICEシミュレータほか
・レイアウト設計:全角度マスクエディタ、SDL、対応形式(GDSII、CIF、OASIS、DXF、Gerberほか)
・物理検証:DRC、LVS
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